[发明专利]一种降低P型衬底HIT太阳能电池串阻的方法无效

专利信息
申请号: 201210294465.3 申请日: 2012-08-17
公开(公告)号: CN103094395A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 崔艳峰;袁声召;石建华;陆中丹;孟凡英;刘正新 申请(专利权)人: 常州天合光能有限公司
主分类号: H01L31/0747 分类号: H01L31/0747;H01L31/0224;H01L31/20
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 张欣
地址: 213031 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 降低 衬底 hit 太阳能电池 方法
【权利要求书】:

1.一种P型衬底HIT太阳能电池,包括:

P型晶硅衬底层;

P型晶硅衬底层两侧的第一和第二本征氢化非晶硅层;

第一本征氢化非晶硅层外侧的N型氢化非晶硅层;

第二本征氢化非晶硅层外侧的P型氢化非晶硅层;

N型氢化非晶硅层外侧的第一TCO层和电极;以及

P型氢化非晶硅层外侧的第二TCO层和电极,

其中,所述第二TCO层是由高功函数TCO层和低功函数TCO层组成的叠层,高功函数TCO层和P型氢化非晶硅层接触。

2.如权利要求1所述的HIT太阳能电池,其特征在于,所述高功函数TCO层的功函数大于5eV。

3.如权利要求1所述的HIT太阳能电池,其特征在于,所述低功函数TCO层的功函数为4.6-4.8eV。

4.如权利要求1所述的HIT太阳能电池,其特征在于,所述低功函数TCO层和所述第一TCO层的功函数基本相同。

5.一种P型衬底HIT太阳能电池的制备方法,包括:

在P型晶硅衬底层形成两侧形成第一和第二本征氢化非晶硅层;

第一本征氢化非晶硅层外侧形成N型氢化非晶硅层;

在第二本征氢化非晶硅层外侧形成P型氢化非晶硅层;

在N型氢化非晶硅层外侧形成第一TCO层;

在所述P型氢化非晶硅层外侧形成第二TCO层;

在所述第一TCO层和第二TCO层上分别形成电极,

其中,形成所述第二TCO层包括:在所述P型氢化非晶硅层外侧形成高功函数TCO层,然后形成低功函数TCO层。

6.如权利要求5所述的P型衬底HIT太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述高功函数TCO层的功函数大于5eV。

7.如权利要求5所述的P型衬底HIT太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述低功函数TCO层的功函数为4.6-4.8eV。

8.如权利要求5所述的P型衬底HIT太阳能电池的制备方法,其特征在于,所述低功函数TCO层和所述第一TCO层的功函数基本相同。

9.如权利要求5-8中任一项所述的P型衬底HIT太阳能电池的制备方法,其特征在于,通过控制TCO层沉积过程中的氧分压,来控制所获得的功函数。

10.一种P型衬底HIT太阳能电池,其特征在于,和P型氢化非晶硅层接触的是TCO叠层,所述TCO叠层由高功函数TCO层和低功函数TCO层构成,其中所述高功函数TCO层与P型氢化非晶硅层接触,所述高功函数TCO层的功函数比所述低功函数TCO层更加接近所述P型氢化非晶硅层的功函数。

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