[发明专利]薄膜晶体管及其制造方法有效
| 申请号： | 201210291168.3 | 申请日： | 2011-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN102856389A | 公开（公告）日： | 2013-01-02 |
| 发明（设计）人： | 李刘中;丁宏哲;陈佳榆 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L29/22 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁挥;鲍俊萍 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 薄膜晶体管 及其 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种薄膜晶体管，其特征在于，包括：
一栅极；
一栅绝缘层，覆盖该栅极；
一氧化物半导体通道层，配置于该栅绝缘层上且位于该栅极上方，其中该氧化物半导体通道层为单一膜层且具有一第一部以及一第二部，该第一部位于该第二部以及该栅绝缘层之间，该第一部的结晶尺寸大于该第二部的结晶尺寸；以及
一源极与一漏极，配置于该氧化物半导体通道层上。
2.根据权利要求1所述的薄膜晶体管，其特征在于，该氧化物半导体通道层包括一非晶硅氧化物半导体通道层。
3.根据权利要求1所述的薄膜晶体管，其特征在于，该氧化物半导体通道层的材质包括氧化铟镓锌、氧化铟锌、氧化铟镓、氧化锡、氧化镉·氧化锗或氧化镍钴。
4.根据权利要求1所述的薄膜晶体管，其特征在于，该第一部的氧含量低于该第二部的氧含量。
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