[发明专利]一种光学干涉薄片制备方法及制备设备

权利要求书

1.一种光学干涉薄片制备设备，其特征在于：包括：

一光学镀膜机，其内腔抽真空，其二相对的侧面分别设有一真空封辊，所述真空内腔内设有用于喷射镀膜所需粒子的粒子蒸发源；

第一卷绕机构及第二卷绕机构，其分别设置于与所述二真空封辊相邻的位置，使得安装于第一或第二卷绕机构上的柔性基底材料可顺序通过一真空封辊、真空内腔及另一真空封辊，从而卷绕于第二或第一所述卷绕机构上；

第一卷绕电机及第二卷绕电机，其分别与所述第一、第二卷绕机构连接，正向和/或反向驱动其所对应的卷绕机构转动。

2.根据权利要求1所述的制备设备，其特征在于，还包括一用于控制所述二卷绕电机的控制单元，其与所述而卷绕电机信号连接。

3.根据权利要求2所述的制备设备，其特征在于，所述二卷绕电机内设减速器，卷绕电机的卷绕速度为1CM/S~100M/S可调  。

4.根据权利要求3所述的制备设备，其特征在于，所述二卷绕电机的卷绕速度为10CM/S~10M/S可调。

5.根据权利要求2至4任一所述的制备设备，其特征在于，所述真空内腔内设有用于增加制成的光学干涉薄片的致密度的离子辅助设备。

6.一种采用权利要求1至5任一制备设备的光学干涉薄片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、在第一卷绕机构上安装柔性基底材料载体，所述柔性基底材料表面预先涂印有一层可溶性材料；

 S2、开启所述第一卷绕机构连接的第一卷绕电机，控制所述第一卷绕机构正向转动，使所述柔性基底材料由该第一卷绕机构通过与其相邻的真空封辊、真空腔、另一真空封辊向第二卷绕机构传送卷绕，柔性基底材料通过所述真空内腔时，在其表面镀制第一层薄膜；

S3、开启与第二卷绕机构连接的第二卷绕电机，控制所述第二卷绕机构反向转动，使已镀制第一层薄膜的柔性基底材料顺序通过真空封辊、真空腔、真空封辊向所述第一卷绕机构传送卷绕，柔性基底材料通过所述真空内腔时，在其表面镀制第二层薄膜；

S4、重复S2及S3，直至在所述柔性基底材料上根据预先的设计依次镀制完成多层薄膜；

S5、退膜处理，得到相应的光学干涉薄片；

S6、碎片处理。

7.一种采用权利要求1至5任一制备设备的光学干涉薄片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S10、在第一卷绕机构上安装柔性基底材料载体；

 S20、开启所述第一卷绕机构连接的第一卷绕电机，控制所述第一卷绕机构正向转动，使所述柔性基底材料顺序通过与所述第一卷绕机构相邻的真空封辊、真空腔、另一真空封辊，当所述柔性基底材料通过所述真空腔时，关闭所述第一卷绕电机，在真空腔内的柔性基底材料表面依次镀制多层薄膜；

S30、开启所述第一卷绕电机，控制所述第一卷绕机构继续转动将镀制好多层薄膜的柔性基底材料绕出真空腔，卷绕于第二卷绕机构上；

S40、重复S20及S30，直至整卷柔性基底材料镀膜完毕；

S50、退膜处理，得到相应的光学干涉薄片；

S60、碎片处理。

8.根据权利要求6或7所述的制备方法，其特征在于：所述多层薄膜是三层干涉结构：吸收层、介质层、吸收层。

9.根据权利要求6或7所述的制备方法，其特征在于：所述多层薄膜是五层干涉结构：吸收层、介质层、反射层、介质层、吸收层。

10.根据权利要求6或7所述的制备方法，其特征在于：所述柔性材料基底是柔性塑料薄膜或金属带状材料。