[发明专利]层叠型晶片透镜以及其制造方法、多层透镜有效

专利信息
申请号: 201210277875.7 申请日: 2012-08-07
公开(公告)号: CN103033901A 公开(公告)日: 2013-04-10
发明(设计)人: 仲桥孝博;花户宏之 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: G02B7/02 分类号: G02B7/02;G02B3/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 吕琳;王忠忠
地址: 日本大阪*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 层叠 晶片 透镜 及其 制造 方法 多层
【说明书】:

技术领域

本发明涉及将多个晶片级透镜重叠起来的层叠型晶片透镜、其制造方法以及将其个别地分割后的多层透镜。

背景技术

为了削减制造成本,提出并制造了将多片晶片级透镜(wafer scale lens)重叠起来并粘接的层叠型晶片透镜。可是,在制造层叠型晶片透镜时,以在粘接的晶片透镜彼此之间不产生位置偏离或者倾斜的方式使其重叠起来是不容易的。这样的晶片透镜彼此的位置偏离或者倾斜、换言之中心位置的偏离(光轴的偏离)和距离(高度)的偏离会成为使透镜特性劣化的较大的原因。因此,以非常高的精度将晶片级透镜彼此重叠起来并粘接的技术在层叠型晶片透镜的制造中是必不可少的。

因此例如,在专利文献1中公开了以下技术,即,如图10(a)所示那样,将粘接晶片级透镜5010、5020的粘接剂5203填充在晶片级透镜5010、5020之间。专利文献1中公开的层叠型晶片透镜5000是将2片晶片级透镜5010、5020重叠起来的层叠型晶片透镜。

图10(b)表示粘接前的晶片级透镜5010、5020,在粘接时,在槽5012、5022中填充粘接剂5203。如图10(b)所示那样,被填充粘接剂5203的槽5012、5022形成在两晶片级透镜5010、5020中的相互对置侧的面,而且避开了彼此的透镜光学部5011、5021而形成。

而且,在粘接时,在透镜光学部5011、5021的周围部分中的除了槽5012、5022以外的部分中,晶片级透镜5010、5020的对置面彼此相互直接相接。这是因为涂敷于槽5012、5022的粘接剂5203的厚度为槽5012、5022的深度以下。也就是说,有无粘接剂5203与晶片级透镜5010、5020间的距离没有关系。因此,能使粘接的晶片级透镜5010、5020间的距离固定。进而,只要是在粘接前,就能对重叠的晶片级透镜5010、5020的位置以及/或者方向进行调整,使得不产生晶片级透镜5010、5020间的位置偏离或者倾斜。

再有,公开了利用毛细管现象,将遮光材料或者密封树脂渗入到空隙中的技术。

例如,在专利文献2中公开了利用毛细管现象,在透镜间形成的空隙部中渗入遮光材料的技术。即,示出了通过利用了毛细管现象的渗入而能不与透镜面接触地在空隙部中装入遮光材料,由此能容易地形成均匀的遮光部。

此外,在专利文献3中公开了以下技术,即,将安装有功能元件的基板和树脂密封板以设置适当的间隔的间隙的方式对置配置,在该间隙中渗入填充密封树脂。在上述树脂密封板中与安装于基板的功能元件所具有的功能部对应地形成有开口部。在同一文献中示出了通过在树脂密封板中设置开口部,从而在开口部的边界产生表面张力,在渗入填充密封树脂时,上述表面张力阻止密封树脂进入到基板上的功能部内。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本公开专利公报“特开2011-013576号公报(2011年1月20日公开)”;

专利文献2:日本公开专利公报“特开2002-350605号公报(2002年12月4日公开)”;

专利文献3:日本公开专利公报“特开2007-235045号公报(2007月9月13日公开)”;

专利文献4:日本公开专利公报“特开2009-210739号公报(2009月9月17日公开)”。

发明内容

发明要解决的课题

可是,在引用文献1所公开的技术中,由于需要在重叠的各晶片级透镜的对置面形成槽,所以有金属模加工变得复杂的问题。此外,由于仅在槽的部分填充粘接剂,所以即使以不使多片晶片级透镜的光轴偏离的方式,对上述晶片级透镜进行调整、粘接之后切断,在将上述晶片级透镜分割成多层透镜时,在各个多层透镜的每一个或者一个多层透镜的每个剖面也存在粘接的地方变得不均匀的可能性。其结果是,存在由于不均匀的粘接的地方导致各个多层透镜的光学上的性能出现偏差,或者由于粘接的地方不充分所以粘接剥离等的问题。

本发明是鉴于上述而做出的,其目的在于,提供一种能以高的精度将晶片级透镜彼此重叠起来并均匀地进行粘接的层叠型晶片透镜以及其制造方法、多层透镜。

用于解决课题的方案

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于夏普株式会社,未经夏普株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210277875.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top