[发明专利]排气系统及其方法

权利要求书

1.一种设备，其通过传送气体（G）从用于扁平物体（3）的单侧湿法化学处理的连续式设备（1）中去除气态反应产物（2），所述设备包括入口（8）、用于收容处理液（F）的处理池（4）、具有传送面（6）的用于沿传送方向（7）水平传送扁平物体（3）的连续式传送器件（5）、出口（9）以及布置在所述传送面（6）上方的用于气态反应产物（2）的集气室（10），其特征在于：为形成排气通道（13），所述集气室（10）在所述出口（9）的区域设置入口开口（11）以及在所述入口（8）的区域设置出口开口（12），以这样的方式使得所述传送气体（G）能够沿与所述传送方向（7）相反的方向并且基本平行于所述传送面（6）和所述传送方向（7）流过所述排气通道（13）。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述入口开口（11）由所述设备的所述出口（9）形成，并且/或者所述出口开口（12）由所述设备的所述入口（8）形成。

3.根据权利要求1或2所述的设备，还包括气体传输器件和/或用于影响所述传送气体（G）的流动速率的装置，所述气体传输器件布置于所述排气通道（13）的区域中，并且/或者其流体连接到所述排气通道（13）。

4.根据权利要求3所述的设备，还包括控制单元，所述控制单元控制所述气体传输器件和/或用于影响流动速率的装置。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的设备，还包括用于所述传送气体（G）的流动的水平校准的装置（14）。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的设备，其中，至少一个另外的入口开口和/或出口开口布置在所述集气室（10）的区域中。

7.根据权利要求1~6中任一项所述的设备，其中，所述传送气体（G）是空气，并且/或者，相对于所述排气通道（13）的1m2横截面积，所述传送气体（G）的流量被调整为0.1-5m3/min，优选为1m3/min；并且/或者其中，流动速率中的指向所述传送方向（7）反向的分量在所述传送面（6）的区域中为0.01-5m/s，优选为1m/s。

8.一种方法，其使用权利要求1-7中任一项所述的设备通过传送气体（G）从用于扁平物体（3）的单侧湿法化学处理的连续式设备（1）中去除气态反应产物（2），其特征在于：所述排气通道（13）中的所述传送气体（G）被导向与所述传送方向（7）相反的方向并且基本平行于所述传送面（6）以及所述传送方向（7）。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述设备包括入口（8）、用于收容处理液（F）的处理池（4）、具有传送面（6）的用于沿传送方向（7）水平传送扁平物体（3）的连续式传送器件（5）、出口（9）以及布置在所述传送面（6）上方的用于气态反应产物（2）的集气室（10），并且其中，为形成排气通道（13），所述集气室（10）在所述出口（9）的区域设置入口开口（11）以及在所述入口（8）的区域设置出口开口（12）。

10.根据权利要求8或9所述的方法，其中，所述传送气体（G）具有由布置在所述排气通道（13）的区域中并且/或者流体连接到所述排气通道（13）的至少一个气体传输器件产生的气流，并且/或者所述气流通过用于所述传送气体（G）的所述气流的水平校准的装置（14）而偏转。

11.根据权利要求8-10中任一项所述的方法，其中，所述排气通道（13）中的所述传送气体（G）的所述气流的速率根据所述传送气体（G）所导出的气态反应产物（2）的浓度来控制。