[发明专利]基板交接方法

说明书

技术领域

本发明涉及对载置台交接基板的基板交接方法。

背景技术

FPD（Flat Panel Display：平板显示器）制造装置和太阳能电池制造装置等中在处理室内对大型的玻璃基板施加蚀刻和成膜等的等离子体处理，为此，具备用于将玻璃基板搬入处理室内以及从处理室内搬出的搬送装置。该搬送装置，通常由能够进退的臂支承玻璃基板，能够在处理室内与处理室外之间搬入搬出。处理室内具备载置玻璃基板的载置台，通过能够从载置台的基板载置面升降的升降销，进行进入带处理室内的臂与载置台之间的基板的交接。

当将用升降销从臂接受的玻璃基板载置到载置台时，若在周边部和中央部使升降销为相同高度地支承，则因为玻璃基板具有可挠性，被中央部的升降销支承的部分凹陷，当将玻璃基板载置到载置台时，在载置台的基板载置面与玻璃基板之间形成有空间。

为了抑制形成这样的空间，并使基板均匀地接触且载置到载置台，因此在专利文献1记载有以周边部的升降销的高度比中央部的升降销更高的方式支承玻璃基板，将玻璃基板在朝向基板载置面突出地弯曲的状态下，载置到载置台的基板载置面上的技术。

另外，在专利文献1中，即使当相反从载置台升起时，也使周边部的升降销先突出，玻璃基板在以朝向基板载置面突出的方式弯曲的状态下被举起。这是为了抑制玻璃基板的摇晃。

专利文献1：日本特开2008-60285号公报

发明内容

但是，在将玻璃基板载置到载置台上进行等离子体处理期间，玻璃基板被载置台所具备的静电吸盘吸附，在等离子体处理后，在解除了静电吸附后也不能充分除电的情况下存在玻璃基板带电的状况。因此，当解除吸附并将玻璃基板从载置台举起时，若将玻璃基板在朝向基板载置面突出地弯曲的状态下举起时，则存在如下情况：玻璃基板整体带电的电荷向仍然接触的部分移动，电荷集中在最终接触面积减小的玻璃基板的中央部，在玻璃基板与基板载置面之间形成较大的电场，发生异常放电。

本发明提供了一种基板交接方法，其能够将具有可挠性的基板均匀地接触并载置到载置台上，并且，接触静电吸盘的吸附而将基板从载置台举起时，基板不容易发生异常放电。

本发明的一个方式的基板交接方法，是对于对具有可挠性的基板进行等离子体处理的处理腔室内设置的、具备通过静电吸附而吸附上述基板的静电吸盘的载置台，交接上述基板的基板交接方法，上述载置台包括载置上述基板的基板载置面、能够对于该基板载置面升降并且支承上述基板的周边边缘部的第一升降销、能够对于上述基板载置面升降并且支承上述基板的中央部的第二升降销，上述方法包括对于上述基板在上述基板载置面的上方，使被上述第一升降销和比上述第一升降销更低的位置的第二升降销支承的上述基板下降，将上述基板从该基板的中央部载置到上述基板载置面的基板载置工序，使上述基板载置面上载置的上述基板被上述静电吸盘吸附，对上述基板进行等离子体处理的工序，上述等离子体处理结束后，解除上述静电吸盘的吸附，使上述第一升降销与上述第二升降销为相同高度支承上述基板，使上述基板从上述基板载置面脱离的基板脱离工序。

根据本发明，能够提供一种基板交接方法，其能够使具有可挠性的基板均匀地接触并载置到载置台上，并且，解除静电吸盘的吸附将基板从载置台举起时，基板不容易发生异常放电。

附图说明

图1是表示具备本发明的一个实施方式的基板载置机构的基板处理装置的一个例子的概要截面图。

图2是图1所示的基板处理装置的平面方向的概要截面图。

图3是概要地表示基板载置机构的截面图。

图4是表示一个实施方式的基板交接方法的一个例子的概要截面图。

图5是示意地表示参考例的基板G的弯曲的示意图。

图6是示意地表示一个实施方式的基板G的弯曲的示意图。

附图标记说明

G……基板

2……处理腔室

4……基座

4c……基板载置面

8a……支承周边边缘部的升降销

8b……支承中央部的升降销

41……静电吸盘。

具体实施方式

以下，参照附图说明本发明的实施方式。在所有参照的附图中，对于相同的部分附加相同的参照附图标记。

图1是表示能够实施本发明的一个实施方式的基板交接方法的基板处理装置的一个例子的概要截面图，图2是其平面方向的概要截面图。在本例中，作为基板处理装置的一个例子表示等离子体蚀刻装置。