[发明专利]光学胶合元件制作方法

权利要求书

1.一种光学胶合元件制作方法，包括光学玻璃基材经真空镀铬膜后，采用腐蚀方法在一块光学玻璃基材上制作一个以上光学零件的图形，光学玻璃基材经清洗后用光敏胶与光学玻璃基材的盖片进行胶合，胶合后切割成小块，然后进行外圆加工、抛光，加工成光学胶合元件，其特征在于，所述腐蚀方法包括以下步骤：

S1：在光学玻璃上进行真空镀膜，镀上铬膜层；

S2：在步骤S1得到的产品涂覆光刻胶，履盖所述铬膜层；

S3：将准备好的光学零件母版与步骤S2得到的产品贴合在一起置于曝光机内，进行曝光； 

S4：将已曝光的产品放入显影液中显影；

S5：腐蚀：将显影完毕的产品放入腐蚀液中腐蚀后制成具有一个以上光学零件图形的基板。

2.根据权利要求1所述的光学胶合元件制作方法，其特征在于：所述光刻胶为正性光刻胶；所述显影液为4wt‰~7wt‰的氢氧化钠或氢氧化钾水溶液、或2.38wt%的四甲基氢氧化铵水溶液，在显影过程中溶解和清洗显影过的光刻胶。

3.根据权利要求1所述的光学胶合元件制作方法，其特征在于：所述腐蚀液由硝酸铈铵、醋酸、去离子水组成，其比例为硝酸铈铵200克，醋酸 35毫升，去离子水1000毫升。

4.根据权利要求1所述的光学胶合元件制作方法，其特征在于：所述真空镀铬膜在100级净化、15~25℃、相对湿度不高于40%环境条件下进行。

5.根据权利要求1所述的光学胶合元件制作方法，其特征在于：所述光学玻璃基材经清洗后胶合，清洗过程包括在 pH值11～12条件下进行碱性清洗、酸性清洗、去离子水漂洗、异丙醇超声波清洗、异丙醇脱水、异丙醇蒸馏。