[发明专利]一种等离子喷涂技术制备碳化硼涂层的方法有效

专利信息
申请号: 201210237834.5 申请日: 2012-07-09
公开(公告)号: CN103540891A 公开(公告)日: 2014-01-29
发明(设计)人: 王文东;闫坤坤;黄春 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: C23C4/10 分类号: C23C4/10
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 刘丽君
地址: 100029 北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 等离子 喷涂 技术 制备 碳化 涂层 方法
【权利要求书】:

1.一种等离子喷涂技术制备碳化硼涂层的方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤(1),将碳化硼粉末与聚乙烯粉末或酚醛树脂粉末混合均匀,并将混合后的粉末送入等离子喷涂设备;

步骤(2),对待喷涂的铝基材的刻蚀工艺腔室无需喷涂的部位进行遮蔽,然后使用丙酮或酒精对所述刻蚀工艺腔室的内壁进行清洗;

步骤(3),对清洗后的刻蚀工艺腔室的内壁进行喷砂处理;

步骤(4),通过所述等离子喷涂设备在所述刻蚀工艺腔室内壁进行等离子喷涂,制备出碳化硼涂层。

2.如权利要求1所述的等离子喷涂技术制备碳化硼涂层的方法,其特征在于,所述步骤(1)中的聚乙烯粉末或酚醛树脂粉末的重量为所述混合后的粉末总重量的1%~5%。

3.如权利要求1所述的等离子喷涂技术制备碳化硼涂层的方法,其特征在于,所述步骤(1)中的混合后的粉末的粒度为5~40μm。

4.如权利要求1所述的等离子喷涂技术制备碳化硼涂层的方法,其特征在于,所述步骤(3)中所述等离子喷涂设备使用的离子气体为Ar和H2,Ar气体的流量为40~90L/min,H2气体的流量为5~20L/min。

5.如权利要求1所述的等离子喷涂技术制备碳化硼涂层的方法,其特征在于,所述步骤(3)中等离子喷涂设备的电弧电压为40~90V,电弧电流为600~900A,送粉速度为15~100g/min,喷涂距离为60~140mm,粉斗搅拌速度5~40r/min,送粉角度为50°~90°,喷枪相对刻蚀工艺腔室的内壁的扫描速度为3~1000mm/s,转台转速为0~200rpm。

6.如权利要求1所述的等离子喷涂技术制备碳化硼涂层的方法,其特征在于,所述步骤(3)中等离子喷涂的过程中,采用压缩空气喷吹方法或者循环水冷方法来冷却所述刻蚀工艺腔室,所述压缩空气喷吹方法中冷却气体的流量为100~2000L/min,所述循环水冷方法中冷却水的流量为10~500L/min。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210237834.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top