[发明专利]一种等离子喷涂技术制备碳化硼涂层的方法有效
申请号: | 201210237834.5 | 申请日: | 2012-07-09 |
公开(公告)号: | CN103540891A | 公开(公告)日: | 2014-01-29 |
发明(设计)人: | 王文东;闫坤坤;黄春 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | C23C4/10 | 分类号: | C23C4/10 |
代理公司: | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人: | 刘丽君 |
地址: | 100029 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 等离子 喷涂 技术 制备 碳化 涂层 方法 | ||
1.一种等离子喷涂技术制备碳化硼涂层的方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤(1),将碳化硼粉末与聚乙烯粉末或酚醛树脂粉末混合均匀,并将混合后的粉末送入等离子喷涂设备;
步骤(2),对待喷涂的铝基材的刻蚀工艺腔室无需喷涂的部位进行遮蔽,然后使用丙酮或酒精对所述刻蚀工艺腔室的内壁进行清洗;
步骤(3),对清洗后的刻蚀工艺腔室的内壁进行喷砂处理;
步骤(4),通过所述等离子喷涂设备在所述刻蚀工艺腔室内壁进行等离子喷涂,制备出碳化硼涂层。
2.如权利要求1所述的等离子喷涂技术制备碳化硼涂层的方法,其特征在于,所述步骤(1)中的聚乙烯粉末或酚醛树脂粉末的重量为所述混合后的粉末总重量的1%~5%。
3.如权利要求1所述的等离子喷涂技术制备碳化硼涂层的方法,其特征在于,所述步骤(1)中的混合后的粉末的粒度为5~40μm。
4.如权利要求1所述的等离子喷涂技术制备碳化硼涂层的方法,其特征在于,所述步骤(3)中所述等离子喷涂设备使用的离子气体为Ar和H2,Ar气体的流量为40~90L/min,H2气体的流量为5~20L/min。
5.如权利要求1所述的等离子喷涂技术制备碳化硼涂层的方法,其特征在于,所述步骤(3)中等离子喷涂设备的电弧电压为40~90V,电弧电流为600~900A,送粉速度为15~100g/min,喷涂距离为60~140mm,粉斗搅拌速度5~40r/min,送粉角度为50°~90°,喷枪相对刻蚀工艺腔室的内壁的扫描速度为3~1000mm/s,转台转速为0~200rpm。
6.如权利要求1所述的等离子喷涂技术制备碳化硼涂层的方法,其特征在于,所述步骤(3)中等离子喷涂的过程中,采用压缩空气喷吹方法或者循环水冷方法来冷却所述刻蚀工艺腔室,所述压缩空气喷吹方法中冷却气体的流量为100~2000L/min,所述循环水冷方法中冷却水的流量为10~500L/min。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆