[发明专利]一种热固型IMD膜及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201210236589.6 申请日: 2012-07-09
公开(公告)号: CN102744939A 公开(公告)日: 2012-10-24
发明(设计)人: 孝睿;皇甫宁波 申请(专利权)人: 南京市江亚数码科技有限公司
主分类号: B32B27/06 分类号: B32B27/06;B32B33/00
代理公司: 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 代理人: 曾少丽
地址: 211100 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 热固型 imd 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及内装饰膜技术领域,特别是指一种热固型IMD膜及其制备方法。

背景技术

众所周知,塑料制品的表面具有不耐磨擦的特点。针对这一特点,近几年来,一种新的内装饰膜的注塑新工艺应运产生了,即模内注塑技术。具体为,先将一张PET薄膜的表面涂上可抗划伤的强化涂料,另一面涂上油墨吸附层。在加工塑料制品时先将所需的色彩、图案、商标等印刷在内层。再根据产品的结构热定型,然后放入注塑机中注塑,使内装饰膜和塑料容为一体。又因为有些塑料件需要视窗(如手机的面板、洗衣机的面板及很多仪器仪表盘等),所以,一种高透光率、高抗划伤、高柔韧性、高油墨附着性的(IMD、IML、IMR)薄膜成了现代注塑产业的关键。

现在国内外的通行做法是采用UV涂料做表面的强化层。但随着该技术的不断普及。对透光率,柔韧性,强化层的附着力要求越来越高。UV涂层是瞬间老化,因此而造成的成膜密度低,成膜柔韧性差,难于适应工件变型大的要求。

因此,一种高透光、高柔韧和高附着力的IMD膜的出现就很有必要了。

发明内容

本发明提出一种热固型IMD膜,解决了现有技术中IMD膜的透光率低,柔韧性差,附着力低的技术问题。

本发明提出一种热固型IMD膜的制备方法,该制备方法有一个阶梯升温的过程,使涂层的交联更加充分,从而使得产品具有高透光,高柔韧和高附着力的特点。

本发明的技术方案是这样实现的:

一种热固型IMD膜,该IMD膜包括:PET基膜,在所述PET基膜的上表面设置有涂布层,在所述涂布层上设置有膜层,在所PET基膜的下表面设置有油墨附着层,在所述油墨附着层上设置有膜层;其中所述抗划伤涂布层为热固化的涂布层。

作为优选的技术方案,所述的涂布层包括打底偶联层和坡流挤压抗划伤涂布层。

作为优选的技术方案,所述的打底偶联层为1层。打底偶联层的厚度为1-2um。

作为优选的技术方案,所述的坡流挤压抗划伤涂布层为1层。坡流挤压抗划伤涂布层的厚度为3-6um。

作为优选的技术方案,所述的膜层为1层,膜层的材料为PE或PET。

作为优选的技术方案,所述的热固型IMD膜的硬度在2H以下,以满足注塑的要求。

一种热固型IMD膜的制备方法,包括:

电晕PET基膜;

在所述PET基膜上涂布;

将涂布后的所述PET基膜干燥;

将干燥后的所述PET基膜热固化;

将热固化后的所述PET基膜背涂油墨附着层;

将背涂油墨附着后的所述PET基膜烘干固化,双面复膜,熟化,收卷,分切,即得。

作为优选的技术方案,所述干燥的温度为40-80℃。分区间进行干燥。

作为优选的技术方案,所述热固化的工艺条件为:温度90-150℃,时间45-90min。

作为优选的技术方案,所述涂布包括:打底涂布的步骤和坡流挤压涂布的步骤。坡流挤压涂布是一种表面无损伤的上料工艺,使涂层表面更加平整。

作为优选的技术方案,所述烘干固化的温度为50-70℃。

有益效果

(1)本发明的热固型IMD膜具有高透光、高柔韧和高附着力的特点;

(2)本发明的采用热固化的工艺,这与传统的紫外灯照射瞬间老化不同,涂布层有一个阶梯升温的过程,使涂层的交联更加充分,从而达到高透光,高柔韧和高附着力的要求;采用热固化工艺,可以根据固化温度的高低,控制膜表面的硬度,适应各种不同的需求;

(3)本发明采用坡流挤压涂布,使得上料无损伤,涂层表面非常平整。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例1的一种热固型IMD膜的结构示意图;

图2为本发明实施例1的一种热固型IMD膜的工艺流程图;

图3为本发明实施例2的一种热固型IMD膜的结构示意图。

具体实施方式

下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

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