[发明专利]固态成像器件、固态成像器件的制造方法以及电子装置无效
申请号: | 201210232460.8 | 申请日: | 2012-07-05 |
公开(公告)号: | CN102881699A | 公开(公告)日: | 2013-01-16 |
发明(设计)人: | 东宫祥哲;大塚洋一;前田兼作 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H04N5/374 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 张丽新 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 固态 成像 器件 制造 方法 以及 电子 装置 | ||
1.一种固态成像器件,包括:
衬底,在该衬底上形成具有光电转换器的多个像素;
无机微透镜,由无机材料制成并且形成在衬底之上;以及
有机微透镜,由有机材料制成并且邻近无机微透镜形成,使得边缘部分与无机微透镜的边缘部分接触或者重叠。
2.如权利要求1所述的固态成像器件,还包括:
平坦化膜,由有机材料制成并且形成在衬底上;以及
在平坦化膜和无机微透镜之间的至少一层或者多层应力缓和层。
3.如权利要求2所述的固态成像器件,
其中,无机微透镜由Si3N4,SiO2以及SixOy(0<X≤1,0<Y≤1)中的任一个制成。
4.如权利要求3所述的固态成像器件,
其中,应力缓和层由从Si3N4,SiO2以及SixOy(0<X≤1,0<Y≤1)表示的硅化合物中选择的一种或多种材料制成。
5.如权利要求4所述的固态成像器件,
其中,应力缓和层的折射率是1.4到2.0。
6.如权利要求5所述的固态成像器件,
其中,应力缓和层兼作抗反射膜。
7.如权利要求1所述的固态成像器件,
其中,在用于检测瞳分图像并且输出相差检测信号的一对相差检测像素之上形成无机微透镜,
在用于输出对象的图像信号的成像像素之上形成有机微透镜,以及
无机微透镜的折射率高于有机微透镜的折射率。
8.一种固态成像器件的制造方法,包括:
在衬底上形成具有光电转换器的多个像素;
在衬底上形成的给定像素之上形成无机材料制成的无机微透镜,以及
在其中未形成无机微透镜的像素之上形成有机材料制成的有机微透镜。
9.如权利要求8所述的固态成像器件的制造方法,
其中,形成有机微透镜的处理包括:
通过图案化在给定像素之上形成有机材料制成的有机微透镜层;以及
通过热回流使有机微透镜层变形。
10.如权利要求9所述的固态成像器件的制造方法,
其中,以棋盘图案形成无机微透镜。
11.如权利要求10所述的固态成像器件的制造方法,还包括:
在形成无机微透镜的处理之前
在衬底上形成有机材料制成的平坦化膜,以及
在平坦化膜上形成至少一层或者多层应力缓和层。
12.如权利要求11所述的固态成像器件的制造方法,
其中,无机微透镜由Si3N4、SiO2以及SixOy(0<X≤1,0<Y≤1)中的任一个制成。
13.如权利要求12所述的固态成像器件的制造方法,
其中,应力缓和层由从Si3N4、SiO2以及SixOy(0<X≤1,0<Y≤1)表示的硅化合物中选择的一种或多种材料制成。
14.如权利要求13所述的固态成像器件的制造方法,
其中,应力缓和层的折射率是1.4到2.0。
15.如权利要求8所述的固态成像器件的制造方法,
其中,通过重复有机微透镜的形成来形成具有不同折射率的有机微透镜。
16.一种电子装置,包括:
光透镜;
固态成像器件,会聚到光透镜上的光入射到该固态成像器件上,该固态成像器件具有
衬底,在该衬底上形成具有光电转换器的多个像素;
无机微透镜,由无机材料制成并且形成在衬底之上,以及
有机微透镜,由有机材料制成并且邻近无机微透镜形成,使得边缘部分与无机微透镜的边缘部分接触或者重叠;以及
信号处理电路,用于处理从固态成像器件输出的输出信号。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的