[发明专利]涂布型透明导电膜结构及其应用

说明书

技术领域

本发明关于一种导电膜结构，特别是关于一种涂布型透明导电膜结构及其应用。

背景技术

近年来市场上推出了许多便利的智慧商品，例如，智能型手机、触控屏幕、触控平板计算器、电子书等。随着这些高度应用触控技术的推出，带动了整个触控面板，包括单点触控、以及多点触控，的商机。习知技艺的触控面板结构的透明导电膜的材料大多是选自铟锡或铟锌的金属氧化物。

图1是一习知技艺中的导电膜结构的示意图。在基材层120之上，依序具有第一色度调整层140、第二色度调整层160、以及氧化铟锡(ITO)层180。上述的ITO层180以溅镀(sputtering)的方式形成于第二色度调整层160之上。根据习知技艺的设计，为了有效降低从ITO层180透出的光线与来自基材层120另一侧的发光材料(未显示于图中)的光线之间的色度差，必须在基材层120与ITO层180之间加入一层折射率大于基材层120的折射率的色度调整层，以及一层折射率小于基材层120的折射率的色度调整层。其中，上述的第二色度调整层160与第一色度调整层140在材质选择上的不同之处除了折射率的考虑之外，还必须进一步考虑到后续ITO层180的溅镀制程。

习知该项技艺者均知，以材料的折射率来调控光线穿透前后的色度差，并不是一件容易的事，更何况是必须使用两种不同折射率的材料。因此，习知技艺中的透明导电膜不仅使用的材料与设备制程成本昂贵，其制作步骤也相当繁琐。

为了增加导电材料在电容市场的应用，导电材料本身必须具有光线高穿透性外，更须具有蚀刻无痕迹的效果。在习知技艺中，透明导电膜可藉由真空溅镀方式来达到蚀刻无痕迹的效果。然而，溅镀制程所需使用的材料成本，以及制程中对于真空度需求与其技术门坎均是让产品的造价居高不下的原因之一。此外，ITO之类的金属氧化物仅在一定的光学厚度范围内方可呈现出优秀的光穿透性与导电性。但是，随着对于导电膜的阻值必须愈来愈低的趋势要求，上述导电膜中的ITO层的厚度将需逐渐增加。金属氧化物的厚度增加不仅迫使厂商采用更昂贵的设备，也将会提高材料成本。而且，依据习知技艺的溅镀制程，必须牺牲溅镀制程的产能才能达到增加金属氧化物厚度的效果。综合上述，随着导电膜被要求的阻值愈来愈低，导电膜的造价成本将愈来愈高，且制作厂商可能因此而丧失价格的竞争力与末端产品的市场吸引力。甚至，金属氧化物的厚度增加有可能会牺牲掉部分的光穿透性。

有鉴于此，开发可广泛应用于各种触控产品，并具有高光穿透性、高导电性、高产能、低阻值、可挠性、制程简单、且制程设备与材料不昂贵等优势的透明导电膜结构，是一项相当值得产业重视的课题。

发明内容

鉴于上述的发明背景中，为了符合产业上的要求，本发明提供一种涂布型透明导电膜结构，上述涂布型透明导电膜结构不仅制程简易、成本便宜，更具有高光穿透性、高导电性、高产能、低阻值、可挠性等优越性能，进而可有效提升产业竞争力。

本发明的一目的在于提供一种涂布型透明导电膜结构，藉由湿式涂布制程，可有效简化制程、提高产能，并降低导电膜结构的制作成本。

本发明的另一目的在于提供一种涂布型透明导电膜结构，藉由导电材料的选择，可有效提升导电膜结构的光穿透性、高导电性、高产能、可挠性等性能。

本发明的又一目的在于提供一种涂布型透明导电膜结构，藉由导电材料的选择，可有效降低导电膜结构的阻值。

根据以上所述的目的，本发明揭示了一种涂布型透明导电膜结构。上述涂布型透明导电膜结构包含基材层、以及透明导电层。上述涂布型透明导电膜结构可以更包含一色度调整层，上述色度调整层位于基材层与透明导电层之间。其中上述色度调整层与透明导电层可藉由湿式涂布制程来形成于基材层之上。根据本说明书的涂布型透明导电膜结构可藉由采用湿式涂布技术来简化制程，同时提升产能与降低成本。根据本说明书的涂布型透明导电膜结构可呈现出极佳的全光线穿透度，与有效降低透明导电膜结构在蚀刻前后的色度差。更好的是，根据本说明书的涂布型透明导电膜结构可具备优秀的可挠性、耐点击性、与耐划线性。换言之，本说明书揭露了一种应用更广，市场竞争力更强的涂布型透明导电膜结构。

附图说明

图1一习知技艺的透明导电膜结构的示意图。

图2一根据本说明书的涂布型透明导电膜结构的示意图。

图3一根据本说明书的涂布型透明导电膜结构的制作方法的示意图。

图4A至图4I一根据本说明书的具有涂布型透明导电膜的触控模组的示意图。