[发明专利]一种掩模板无效
申请号: | 201210226736.1 | 申请日: | 2012-06-29 |
公开(公告)号: | CN102749801A | 公开(公告)日: | 2012-10-24 |
发明(设计)人: | 谢振宇;郭建 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 模板 | ||
1.一种掩模板,包括:狭缝状透光区域和不透光区域,其特征在于,所述狭缝状透光区域的边缘呈凸起状。
2.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述凸起状为锯齿状或波浪状。
3.根据权利要求2所述的掩模板,其特征在于,所述狭缝状透光区域每一边缘上的任意相邻凸起部分之间的距离相等,所述狭缝状透光区域每一边缘上的任意相邻凹进去部分之间的距离相等。
4.根据权利要求2所述的掩模板,其特征在于,所述狭缝状透光区域的两边缘呈锯齿状,凸起部分的形状为以凸起的角为顶角的等腰三角形,凹进去部分的形状为以凹进去的角为顶角的等腰三角形;或
狭缝状透光区域的两边缘呈锯齿状,凸起部分的形状为以凸起的角为顶角的等腰三角形,凹进去的部分的形状为与等腰三角形共腰的等腰梯形。
5.根据权利要求4所述的掩模板,其特征在于,所述等腰三角形的顶角范围为15°至75°。
6.根据权利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述狭缝状透光区域的两边缘镜像对称。
7.根据权利要求6所述的掩模板,其特征在于,所述狭缝状透光区域的两边缘任意相对凸起部分之间的距离相等;和/或
所述狭缝状透光区域的两边缘任意相对凹进去部分之间的距离相等。
8.根据权利要求7所述的掩模板,其特征在于,两边缘上任意相对两凸起部分之间的距离在1μm至3μm之间,两边缘上任意相对凹进去部分之间的距离为3μm。
9.根据权利要求1-8任一权项所述的掩模板,其特征在于,狭缝状透光区域的每一边缘的两端为凸起状或凹状。
10.根据权利要求9所述的掩模板,其特征在于,当狭缝状透光区域的每一边缘的两端为凸起状时,凸起部分的形状为直角三角形或直角梯形。
11.根据权利要求9所述的掩模板,其特征在于,当狭缝状透光区域每一边缘的两端为凹状时,狭缝状透光区域两边缘的两端相对凸起部分之间的距离小于狭缝状透光区域两边缘中间相对凸起部分之间的距离;或者
狭缝状透光区域所有相对凸起部分之间的距离相等,狭缝状透光区域边缘两端相对凹进去部分之间的距离小于狭缝状透光区域边缘中间相对凹进去部分之间的距离。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备