[发明专利]液晶显示装置的阵列基板有效

专利信息
申请号: 201210224113.0 申请日: 2012-06-29
公开(公告)号: CN103293727A 公开(公告)日: 2013-09-11
发明(设计)人: 黄忠守;周思思 申请(专利权)人: 上海中航光电子有限公司
主分类号: G02F1/133 分类号: G02F1/133;G02F1/1362;G02F1/1339
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆苏华
地址: 201108 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 液晶 显示装置 阵列
【权利要求书】:

1.一种用于液晶显示装置的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板中央为显示区域,所述显示区域四周为非显示区域;

所述非显示区域设置有栅极驱动电路和引线;

所述栅极驱动电路所在的区域形成有栅极驱动电路膜层;

所述引线所在的区域形成有引线膜层,所述引线膜层包括:

绝缘层,位于所述阵列基板的所述非显示区域上方;

钝化层,位于所述绝缘层上方;

多条沿同一方向延伸的引线,全部所述引线位于所述绝缘层的上方或者下方,或者一部分所述引线位于所述绝缘层上方,另一部分所述引线位于所述绝缘层下方;

所述引线膜层还包括一个或多个垫高片;

所述垫高片、绝缘层、钝化层和引线层叠。

2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述垫高片、绝缘层、钝化层和引线层叠的厚度小于或等于所述栅极驱动电路膜层的最大厚度。

3.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,至少一条所述引线所在的区域设置一个或多个垫高片。

4.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述引线膜层包括第一垫高片、第二垫高片和第三垫高片中的至少一种垫高片,所述第一垫高片和所述第二垫高片位于所述绝缘层上面,所述第三垫高片位于所述绝缘层下面。

5.如权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述非显示区域包括栅极驱动电路区域、数据线引线区域和公共电极线引线区域;

位于所述数据线引线区域上的所述引线为数据线引线,位于所述公共电极线引线区域上的所述引线为公共电极线引线;

所述数据线引线区域上的所述引线膜层为数据线引线膜层,所述公共电极线引线区域上的所述引线膜层为公共电极线引线膜层;

所述数据线引线膜层和/或所述公共电极线引线膜层包括有第一垫高片、第二垫高片或者第三垫高片中的至少一种垫高片。

6.如权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,所述数据线引线位于所述绝缘层下面,每一条或者间隔至少一条所述数据线引线上方的所述绝缘层上面有至少一个所述第一垫高片,所述第一垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述数据线引线、所述绝缘层、所述第一垫高片和所述钝化层。

7.如权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,所述数据线引线位于所述绝缘层上方,每一条或者间隔至少一条所述数据线引线下方的所述绝缘层上面有至少一个所述第二垫高片,所述第二垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述绝缘层、所述第二垫高片、所述数据线引线和所述钝化层。

8.如权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,所述数据线引线位于所述绝缘层上方,每一条或者间隔至少一条所述数据线引线下方的所述绝缘层下面有至少一个所述第三垫高片,所述第三垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述第三垫高片、所述绝缘层、所述数据线引线和所述钝化层。

9.如权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,所述数据线引线位于所述绝缘层上方,每一条或者间隔至少一条所述数据线引线下方的所述绝缘层上面和下面分别有至少一个所述第二垫高片和至少一个所述第三垫高片,所述第二垫高片和所述第三垫高片所在位置的所述数据线引线膜层从下到上为所述第三垫高片、所述绝缘层、所述第二垫高片、所述数据线引线和所述钝化层。

10.如权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,设置于每一条或者间隔至少一条所述数据线引线上方的所述第一垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。

11.如权利要求7或9所述的阵列基板,其特征在于,设置于每一条或者间隔至少一条所述数据线引线下方的所述第二垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。

12.如权利要求8或9所述的阵列基板,其特征在于,设置于每一条或者间隔至少一条所述数据线引线下方的所述第三垫高片的数量、形状、大小、材质和相互之间的距离均相同。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海中航光电子有限公司,未经上海中航光电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210224113.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top