[发明专利]单基板显示面板及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201210211779.2 申请日: 2012-06-21
公开(公告)号: CN102736304A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 王东升;董友梅;李文波;武延兵 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1334 分类号: G02F1/1334;G02F1/1333;G02F1/1335
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;赵爱军
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 单基板 显示 面板 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种单基板显示面板,其特征在于,包括:

平行电场基板,

位于平行电场基板上方的显示介质层。

2.根据权利要求1所述的单基板显示面板,其特征在于,所述显示介质层包括液晶分子和基质,其中基质包裹对液晶分子形成液晶团。

3.根据权利要求2所述的单基板显示面板,其特征在于,所述液晶分子在无电场驱动不偏转形态下的常态折射率no与所述基质的折射率np相匹配;或者所述液晶分子在受到电场驱动而偏转形态下的非常态光折射率ne与所述基质的折射率np相匹配。

4.根据权利要求3所述的单基板显示面板,其特征在于,所述基质包括聚合物。

5.根据权利要求3所述的单基板显示面板,其特征在于,所述基质包括具有刚性结构的液晶性聚合物。

6.根据权利要求5所述的单基板显示面板,其特征在于,所述液晶性聚合物在显示介质层中所占的重量百分比为1-5%。

7.根据权利要求3所述的单基板显示面板,其特征在于,所述显示介质层还包括光引发材料或热引发材料。

8.根据权利要求3所述的单基板显示面板,其特征在于,所述显示介质层还包括支撑物。

9.根据权利要求8所述的单基板显示面板,其特征在于,所述支撑物在显示介质层中所占的重量百分比为0.01-5%。

10.根据权利要求9所述的单基板显示面板,其特征在于,所述支撑物在显示介质层中所占的重量百分比为0.1-1%。

11.根据权利要求1、2、3、4、7、8、9、10任一所述的单基板显示面板,其特征在于,所述显示介质层上方形成有防水绝氧的上偏振片。

12.根据权利要求5或6所述的单基板显示面板,其特征在于,所述显示介质层上方形成有保护层。

13.根据权利要求12所述的单基板显示面板,其特征在于,所述保护层为保护胶,或为粘结剂及在粘接剂上贴附的保护膜。

14.根据权利要求1、2、3、4、7、8、9、10任一所述的单基板显示面板,其特征在于,所述显示介质层上方形成有保护层。

15.根据权利要求14所述的单基板显示面板,其特征在于,所述保护层为保护胶,或为粘结剂及在粘接剂上贴附的保护膜。

16.根据权利要求14所述的单基板显示面板,其特征在于,所述保护层层上方形成有防水绝氧的上偏振片。

17.根据权利要求1-10任一所述的单基板显示面板,其特征在于,所述平行电场基板包括形成在其下方、上方或中间层的滤色层。

18.根据权利要求11所述的单基板显示面板,其特征在于,所述平行电场基板包括形成在其下方、上方或中间层的滤色层。

19.根据权利要求14所述的单基板显示面板,其特征在于,所述平行电场基板包括形成在其下方、上方或中间层的滤色层。

20.根据权利要求1、2、3、4、7、8、9、10任一所述的单基板显示面板,其特征在于,所述平行电场基板包括形成在其下方、上方或中间层的下偏振片。

21.根据权利要求11所述的单基板显示面板,其特征在于,所述平行电场基板包括形成在其下方、上方或中间层的下偏振片。

22.根据权利要求14所述的单基板显示面板,其特征在于,所述平行电场基板包括形成在其下方、上方或中间层的下偏振片。

23.一种单基板显示面板的制造方法,其特征在于,包括:

提供平行电场基板;

在平行电场基板上方形成显示介质层。

24.根据权利要求23所述的单基板显示面板的制造方法,其特征在于,所述在平行电场基板上方形成显示介质层包括:

在平行电场基板上涂覆至少包括有液晶分子、单体的复合材料;

对涂覆的复合材料进行固化,形成显示介质层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210211779.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top