[发明专利]一种控制释放系统及其制备方法

权利要求书

1.一种可用于控制释放的基于介孔氧化硅的纳米粒子，其特征在于，所述纳米粒子含有经小分子抑制剂功能化的介孔氧化硅纳米粒子和与所述小分子抑制剂结合的堵孔剂；

其中，所述小分子抑制剂与所述堵孔剂的结合亲和力小于所述堵孔剂与底物的结合亲和力；

其中，所述小分子抑制剂选自：4-氨基安替比林，2-氨基-2-脱氧-D-葡萄糖，氨酪酸，HMG-CoA，二氢叶酸或乙酰胆碱；所述堵孔剂选自：辣根过氧化物酶，葡萄糖氧化酶，伴刀豆球蛋白，GABA转氨酶，HMG-CoA还原酶，二氢叶酸还原酶，或乙酰胆碱酯酶；和所述底物选自：鲁米诺，葡萄糖，2-氨基-3-炔基丁酸，洛伐他汀，甲氨蝶呤或毒扁豆碱。

2.如权利要求1所述的可用于控制释放的基于介孔氧化硅的纳米粒子，其特征在于，所述介孔氧化硅纳米粒子的粒径为80～500nm。

3.如权利要求1所述的可用于控制释放的基于介孔氧化硅的纳米粒子，其特征在于，所述经小分子抑制剂功能化的介孔氧化硅纳米粒子选自：

和

式中，MCM-41指未修饰的介孔氧化硅纳米粒子。

4.如权利要求1－3中任一项所述的可用于控制释放的基于介孔氧化硅的纳米粒子，其特征在于，所述介孔氧化硅纳米粒子是阳离子表面活性剂与正硅酸乙酯的反应产物。

5.如权利要求4所述的可用于控制释放的基于介孔氧化硅的纳米粒子，其特征在于，所述介孔氧化硅纳米粒子是十六烷基三甲基溴化铵与正硅酸乙酯的反应产物。

6.如权利要求1－3中任一项所述的可用于控制释放的基于介孔氧化硅的纳米粒子，其特征在于，所述可用于控制释放的基于介孔氧化硅的纳米粒子还含有药物。

7.如权利要求4所述的可用于控制释放的基于介孔氧化硅的纳米粒子，其特征在于，所述可用于控制释放的基于介孔氧化硅的纳米粒子还含有药物。

8.一种基于介孔氧化硅纳米粒子的控制释放系统，其特征在于，所述控制释放系统含有权利要求1-7中任一项所述的纳米粒子。

9.一种权利要求1-5中任一项所述的基于介孔氧化硅的纳米粒子的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

(a1)将所述介孔氧化硅纳米粒子分散在溶剂中，用所述小分子抑制剂对其表面进行功能化；

(a2)将所述表面经小分子抑制剂功能化的介孔氧化硅纳米粒子分散在溶剂中，与所述堵孔剂充分反应，将介孔堵上，即得到所述基于介孔氧化硅的纳米粒子。

10.如权利要求9所述的制备方法，其特征在于，步骤(a1)所述介孔氧化硅纳米粒子采用水热法制备。

11.如权利要求9-10中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述的溶剂选自甲苯、二甲基甲酰胺、二氯甲烷、水或其混合物。