[发明专利]接触检测装置、记录显示装置和接触检测方法在审
申请号: | 201210188880.0 | 申请日: | 2012-06-08 |
公开(公告)号: | CN103092392A | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
发明(设计)人: | 一星彰;石井努;竹内孝行;佐佐木茂彦;佐藤政宽;友田恭太郎;内藤孝雄;三井实 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 陈源;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 接触 检测 装置 记录 显示装置 方法 | ||
1.一种接触检测装置,包括:
多个检测元件,其在预定接触面上的二维构造中彼此相关,并各自检测物体与所述接触面的接触;
生成单元,其基于所述多个检测元件的检测结果生成特征信息,所述特征信息代表基于物体与所述接触面的接触所绘制轨迹的特征;和
判定单元,其判定所述生成单元所生成的特征信息是否对应于预先登记的特定接触特征信息,所述特定接触特征信息代表基于物体与所述接触面的特定接触所绘制的轨迹的特征。
2.根据权利要求1所述的接触检测装置,其中所述特定接触对应于被预定为与所述接触面正确接触的正确接触或者被预定为与所述接触面误接触的误接触。
3.根据权利要求1或2所述的接触检测装置,还包括:
关联单元,其关联用以识别所述轨迹的识别信息和所述轨迹,
其中,对于所述识别信息所识别的各轨迹,所述判定单元判定所述生成单元所生成的特征信息是否对应于所述特定接触特征信息。
4.根据权利要求1或2所述的接触检测装置,还包括:
识别单元,其基于所述判定单元所做出的判定结果识别代表与所述接触面的特定接触的轨迹。
5.根据权利要求3所述的接触检测装置,还包括:
识别单元,其基于所述判定单元所做出的判定结果识别代表与所述接触面的特定接触的轨迹。
6.根据权利要求4所述的接触检测装置,其中,根据所述判定单元在预定期间内做出的所述生成单元所生成的特征信息对应于所述特定接触特征信息的判定次数,所述识别单元识别出代表与所述接触面的特定接触的轨迹。
7.根据权利要求5所述的接触检测装置,其中,根据所述判定单元在预定期间内做出的所述生成单元所生成的特征信息对应于所述特定接触特征信息的判定次数,所述识别单元识别出代表与所述接触面的特定接触的轨迹。
8.根据权利要求6所述的接触检测装置,其中,如果所述判定单元在所述预定期间内做出的所述生成单元所生成的特征信息对应于所述特定接触特征信息的判定次数大于所述判定单元在所述预定期间内做出的所述生成单元所生成的特征信息不对应于所述特定接触特征信息的判定次数,则所述识别单元将在所述预定期间内在所述接触面上所绘制的轨迹识别为代表所述特定接触的轨迹。
9.根据权利要求7所述的接触检测装置,其中,如果所述判定单元在所述预定期间内做出的所述生成单元所生成的特征信息对应于所述特定接触特征信息的判定次数大于所述判定单元在所述预定期间内做出的所述生成单元所生成的特征信息不对应于所述特定接触特征信息的判定次数,则所述识别单元将在所述预定期间内在所述接触面上所绘制的轨迹识别为代表所述特定接触的轨迹。
10.根据权利要求6所述的接触检测装置,其中,所述预定期间对应于自物体与所述接触面接触至所述物体与所述接触面分开之间的时间段。
11.根据权利要求7所述的接触检测装置,其中,所述预定期间对应于自物体与所述接触面接触至所述物体与所述接触面分开之间的时间段。
12.根据权利要求8所述的接触检测装置,其中,所述预定期间对应于自物体与所述接触面接触至所述物体与所述接触面分开之间的时间段。
13.根据权利要求9所述的接触检测装置,其中,所述预定期间对应于自物体与所述接触面接触至所述物体与所述接触面分开之间的时间段。
14.根据权利要求1或2所述的接触检测装置,其中,所述特征信息对应于表示轨迹幅度的幅度信息、表示轨迹幅度变化程度的程度信息、以及根据物体与所述接触面持续接触的时间而获得的基于持续时间的信息中的至少一项。
15.根据权利要求1或2所述的接触检测装置,其中,所述幅度信息对应于代表轨迹的面积和轨迹的长度中的至少一项的信息,
其中,所述程度信息对应于代表所述轨迹的面积方差或标准偏差的轨迹面积统计信息和代表所述轨迹的长度方差或标准偏差的轨迹长度统计信息中的至少一项,而且
其中,所述基于持续时间的信息对应于代表所述轨迹中的接触点数目的轨迹数目信息。
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