[发明专利]形成穿透和/或反射图像的高处理量检测系统及其方法无效
申请号: | 201210175794.6 | 申请日: | 2003-08-06 |
公开(公告)号: | CN102706888A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 伊曼纽尔·埃尔亚萨夫;哈尔姆·费尔德曼;斯尔曼·亚洛夫;埃尔坦·拉哈特 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司;应用材料以色列公司 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 形成 穿透 反射 图像 处理 检测 系统 及其 方法 | ||
1.一种光学地检测一物体以指示所述物体状态的方法,所述方法至少包含下列步骤:
(a)由所述物体的一区域的一表面反射一第一发光光束,以形成一短周期反射光束,并同时使一第二发光光束穿透所述物体包含所述第一表面与一第二表面的区域,以提供一短周期穿透光束;
(b)感应所述短周期反射光束与所述短周期穿透光束,并响应形成多个可反应所述物体的所述区域的一状态的输出信号;
周期性地重复所述步骤(a)与(b),直到所述物体的一预先定义部分被完全照射为止;及
处理所述输出信号,以提供所述物体的预先定义部分的状态的一指示。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的物体在周期性地重复所述步骤(a)与(b)时是沿一扫描轴移动;
其中每一区域的每一表面具有一形状,其具有一扫描轴投影与一截面扫描轴投影;及
其中所述扫描轴投影与所述截面扫描轴投影实质上相等。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的物体在周期性地重复所述步骤(a)与(b)时是沿一扫描轴移动;
其中每一区域的每一表面具有一形状,其具有一扫描轴投影与一截面扫描轴投影;及
其中所述扫描轴投影不长于所述截面扫描轴投影。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的短周期穿透光束与所述短周期反射光束,是由至少一区域类型感应器所感应。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的第一发光光束与所述第二发光光束由一单一发光光源形成。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的短周期反射光束与所述短周期穿透光束具有不同极性。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的短周期穿透光束是由位于所述物体一侧的一感应器所感应,且所述短周期反射光束是由位于所述物体另一侧的一感应器所感应。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的第一与第二光束具有不同的波长。
9.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的反射与穿透光束为超高频发光光束。
10.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的反射与穿透发光波为极紫外线(extreme UV)发光光束。
11.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的物体的预先定义部分包含所述整个物体。
12.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的第一与第二短周期发光光束由多数个别发光光源形成。
13.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的每一第一发光光束与每一第二发光光束是由一高强度发光光源形成,所述光源是以小于1毫微秒的周期被周期地供给能量。
14.根据权利要求13所述的方法,其特征在于,所述的高强度发光光源的一个工作周期小于0.001。
15.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,光学地检测的所述物体为一光罩,其具有多数透光区域与多数不透光区域,且欲指示的所述状态为所述光罩的透光区域与不透光区域是否具有多数缺陷。
16.一种高处理量检测系统,所述系统包含:
一照明系统,用以由所述物体的一区域的一表面反射一第一发光光束,以形成一短周期反射光束,并同时使一第二发光光束穿透所述物体包含所述第一表面与一第二表面的所述区域,以提供一短周期穿透光束;
至少一感应器,用以感应所述短周期反射光束与所述短周期穿透光束,并响应形成多个可反应所述物体的所述区域的一状态的输出信号;
一控制器,用以周期性地重复所述反射与所述感应步骤,直到照射所述物体的一预先定义部分,并用以处理所述输出信号,以提供所述物体的预先定义部分的状态的一指示。
17.根据权利要求16所述的系统,其特征在于,所述的短周期反射光束与所述短周期穿透光束具有不同的极性。
18.根据权利要求16所述的系统,其特征在于,所述的短周期穿透光束是由位于所述物体一侧的一感应器所感应,且所述短周期反射光束是由位于所述物体另一侧的一感应器所感应。
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