[发明专利]显示装置及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示装置及其制造方法。

背景技术

MEMS显示器(Micro Electro Mechanical System Display：微机电系统显示器)是期待取代液晶显示器的显示器(参照专利文献1)。该显示器与利用了偏振光的液晶光闸方式不同，通过机械光闸方式对光的透过窗进行开闭由此显示图像。光闸由薄膜构成，构成1个像素的光闸的纵横尺寸是几百μm级，厚度是几μm级。通过对一个光闸开闭进行，能够进行1个像素的开关动作。光闸通过静电引力来动作。

光闸配置在一对透光性基板之间的由密封件围成的空间中，该空间被油注满。油防止用于驱动光闸的弹簧的粘着，并减小与透光性基板的光折射率差。

【现有技术文献】

【专利文献1】日本特开2008-197668号公报

一对透光性基板间的间隔通过在两者间配置凸块来维持。凸块由相对的基座和支柱构成，所述基座形成在形成有光闸及其驱动机构的一侧的透光性基板上，所述支柱形成在与其相对的另一侧的透光性基板上。基座由于能够与光闸同时形成，所以能够由构成光闸的材料覆盖，耐油性变高。而支柱存在如下问题：由于树脂露出，所以其成分溶出到油中而生成聚合物。

发明内容

本发明的目的是不增加制造工序地形成耐油性高的凸块。

(1)本发明的显示装置的制造方法，其特征在于，包括以下工序：在第一基板上形成包含凸块、光闸及用于机械驱动所述光闸的驱动部在内的构造物的工序；与所述第一基板相对地配置第二基板的工序；在所述第一基板及所述第二基板之间填充油的工序，形成所述构造物的工序包括：将形成了图案的树脂层形成在所述第一基板上的工序；将作为用于形成所述光闸及所述驱动部的、耐油性比所述树脂层高的材料进行图案形成而得到的膜形成在所述树脂层上的工序；残留所述膜并除去所述树脂层的一部分的工序，所述树脂层具有：最低的第一上表面、比所述第一上表面高的第二上表面、最高的第三上表面、从所述第一上表面下至底面的第一侧面、和从所述第一上表面上至所述第二上表面的第二侧面，以包围所述第三上表面的方式形成贯穿所述树脂层的切槽，所述膜形成为，在所述切槽的内侧覆盖所述树脂层的除了所述底面以外的整体，在所述切槽的外侧使得所述树脂层的至少一部分露出，在除去所述树脂层的一部分的工序中，在所述切槽的内侧残留被所述膜整体覆盖的所述树脂层，在所述切槽的外侧除去与相对于所述膜的露出面连续的所述树脂层的整体，在形成所述构造物的工序中，在所述切槽的内侧由所述树脂层及所述膜形成所述凸块，在所述切槽的外侧由所述膜形成所述光闸和所述驱动部的至少一部分。根据本发明，构成凸块内部的树脂层除了其底面以外的整体，被由耐油性比树脂层高的材料形成的膜覆盖，从而树脂层的成分不会溶出到油中。另外，由于膜与光闸及驱动部同时形成，所以也不会增加制造工序。

(2)在(1)记载的显示装置的制造方法中，其特征还可以在于，将形成了图案的所述树脂层形成在所述第一基板上的工序包括：在所述第一基板上形成第一光致抗蚀剂层的工序；通过光刻对所述第一光致抗蚀剂层进行图案形成而具有所述第一上表面的工序；在形成了图案的所述第一光致抗蚀剂层上形成第二光致抗蚀剂层的工序；通过光刻对所述第二光致抗蚀剂层进行图案形成而具有所述第二上表面的工序；在形成了图案的所述第二光致抗蚀剂层上形成第三光致抗蚀剂层的工序；通过光刻对所述第三光致抗蚀剂层进行图案形成而具有所述第三上表面的工序。

(3)在(1)记载的显示装置的制造方法中，其特征还可以在于，将形成了图案的所述树脂层形成在所述第一基板上的工序包括：在所述第一基板上形成厚度超过所述第一上表面的高度的第一光致抗蚀剂层的工序；通过包含多色调曝光的光刻对所述第一光致抗蚀剂层进行图案形成而具有所述第一上表面及比所述第一上表面高的中间上表面的工序；在形成了图案的所述第一光致抗蚀剂层上形成第二光致抗蚀剂层的工序；通过光刻对所述第二光致抗蚀剂层进行图案形成而在所述第一上表面上配置具有所述第二上表面的部分且在所述中间上表面上配置具有所述第三上表面的部分的工序。

(4)在(1)记载的显示装置的制造方法中，其特征还可以在于，将形成了图案的所述树脂层形成在所述第一基板上的工序包括：在所述第一基板上形成至少具有所述第三上表面的高度的厚度的第一光致抗蚀剂层的工序；通过包含多色调曝光的光刻对所述第一光致抗蚀剂层进行图案形成而具有所述第一上表面及所述第三上表面的工序；在形成了图案的所述第一光致抗蚀剂层上形成第二光致抗蚀剂层的工序；通过光刻对所述第二光致抗蚀剂层进行图案形成而具有所述第二上表面的工序。