[发明专利]光刻对准参数预测方法以及光刻方法有效

专利信息
申请号: 201210142948.1 申请日: 2012-05-09
公开(公告)号: CN102662313A 公开(公告)日: 2012-09-12
发明(设计)人: 陈蕾;胡林;鲍晔;周孟兴 申请(专利权)人: 上海宏力半导体制造有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00;G03F7/20
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 郑玮
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 光刻 对准 参数 预测 方法 以及
【权利要求书】:

1.一种光刻对准参数预测方法,其特征在于包括:

获取同一产品的相对于当前层次相似的其它层次在该机器上的光刻对准参数的第一加权平均值及第一预测准确度参数;

获取与当前产品相同技术平台的其他产品相同层次在该机器上的光刻对准参数的第二加权平均值及第二预测准确度参数;

获取该机器的光刻对准日常监测的结果值及第三预测准确度参数;以及如果当前预测的新产品层次不需要量测光刻对准值,则将光刻对准值直接赋值为0。

2.根据权利要求1所述的光刻对准参数预测方法,其特征在于还包括:

如果第一预测准确度参数高于给定的阈值,则将光刻对准预测值设置为等于:第一加权平均值-结果值×第三预测准确度参数。

3.根据权利要求1或2所述的光刻对准参数预测方法,其特征在于还包括:如果第一预测准确度参数低于给定的阈值,则将光刻对准预测值设定为等于:(第一加权平均值×第一预测准确度参数+第二加权平均值×(1-第一预测准确度参数)×第二预测准确度参数)/(第一预测准确度参数+(1-第一预测准确度参数)×第二预测准确度参数)-结果值×第三预测准确度参数。

4.根据权利要求1或2所述的光刻对准参数预测方法,其特征在于,给定的阈值是可变常数。

5.根据权利要求1或2所述的光刻对准参数预测方法,其特征在于,第一加权平均值及其第一预测准确度参数所使用的数据库是该产品在该机器上一定时间段内所有相似层次的对准参数的理想值;其中,理想值是实际使用的对准参数减去对准量测值所得到的结果值。

6.根据权利要求5所述的光刻对准参数预测方法,其特征在于,对准到同一前层的所有层次为相似层次,并且所有金属层为相似层次,所有孔层为相似层次。

7.根据权利要求1或2所述的光刻对准参数预测方法,其特征在于,针对第二加权平均值,将该机器上所有产品层次的对准参数归为四类,如果仅有当前机器匹配,则该数据为第一类;如果仅有当前机器以及层次匹配,则该数据归为第二类;如果仅有当前机器、层次、技术平台匹配,则该数据归为第三类;如果当前机器、层次、技术平台和前层机器均匹配,则该数据归为第四类。

8.根据权利要求7所述的光刻对准参数预测方法,其特征在于,根据所述四类或者所述四类的一部分来计算第二加权平均值。

9.一种采用了根据权利要求1至8之一所述的光刻对准参数预测方法的光刻方法。

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