[发明专利]一种光谱测量装置有效

专利信息
申请号: 201210113260.0 申请日: 2012-04-18
公开(公告)号: CN102680098B 公开(公告)日: 2016-10-12
发明(设计)人: 潘建根 申请(专利权)人: 杭州远方光电信息股份有限公司
主分类号: G01J3/28 分类号: G01J3/28;G01J3/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310053 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 光谱 测量 装置
【权利要求书】:

1.一种光谱测量装置,包括入射狭缝(1)、色散元件(2)和一个或多个成像元件(3),光线从入射狭缝(1)进入光谱测量装置,经色散元件(2)分光后,成像元件(3)将色散光会聚成像,其特征在于,在成像元件(3)的表面镀有光谱选择性薄膜(4),所述的光谱选择性薄膜(4)的选择波段与光谱测量装置的测量波段相对应。

2.如权利要求1所述的一种光谱测量装置,其特征在于,所述的光谱选择性薄膜(4)由两种或两种以上具有不同选择波段的光学薄膜构成,各光学薄膜的选择波段首尾交叠且覆盖整个测量波段;或者所述的光谱选择性薄膜(4)为一种局部选择波段范围渐变的光学薄膜。

3.如权利要求1所述的一种光谱测量装置,其特征在于,包括阵列探测器(5),成像元件(3)将色散光成像到阵列探测器(5)的光敏面上,在所述的阵列探测器(5)光敏面的不同像素区域上镀有与探测波长相对应的光谱选择性薄膜(4)。

4.如权利要求1所述的一种光谱测量装置,其特征在于,包括用于将成像元件(3)切入光路的切换机构(8),在所述的切换机构(8)上设置两个或两个以上的成像元件(3),所述的两个或两个以上的成像元件(3)分别镀有选择波段不同的光谱选择性薄膜(4)。

5.如权利要求1所述的一种光谱测量装置,其特征在于,包括两个或两个以上的色散元件(2)和两个或两个以上的成像元件(3),色散元件(2)和成像元件(2)的数目相等且间隔设置,各个成像元件(3)上均镀有选择波段对应相等的光谱选择性薄膜(4)。

6.如权利要求1或3或4或5所述的一种光谱测量装置,其特征在于,所述的成像元件(3)是凹面反射镜,在凹面反射镜的表面镀有光谱选择性反射膜或滤光膜。

7.如权利要求1或5所述的一种光谱测量装置,其特征在于,在所述的色散元件(2)上镀有与光谱测量装置的测量波段相对应的光谱选择性薄膜(4)。

8.如权利要求1或5所述的一种光谱测量装置,其特征在于,包括设置于色散元件(2)的入射或出射光路上的一个或者多个准直镜6)或/和反射镜(7)。

9.如权利要求8所述的一种光谱测量装置,其特征在于,在所述的一个或者多个准直镜6)或/和反射镜(7)上镀有与光谱测量装置的测量波段相对应的光谱选择性薄膜(4)。

10.如权利要求1或4或5所述的一种光谱测量装置,其特征在于,包括用以出射单色光的出射狭缝(9),所述的出射狭缝(9)设置在成像元件(3)的成像面上。

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