[发明专利]一种实时监控NBTI效应界面态产生的测试方法有效

专利信息
申请号: 201210109526.4 申请日: 2012-04-13
公开(公告)号: CN102621473A 公开(公告)日: 2012-08-01
发明(设计)人: 安霞;杨东;黄良喜;黄如 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: G01R31/26 分类号: G01R31/26
代理公司: 北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 代理人: 贾晓玲
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 实时 监控 nbti 效应 界面 产生 测试 方法
【权利要求书】:

1.一种实时监控NBTI效应界面态产生的测试方法,针对PMOS器件的NBT应力偏置,其特征在于,PMOS器件的源端、源端和衬底均接地,栅端的直流电压信号源变为脉冲信号源,在NBT应力阶段,栅端脉冲电压以一定的频率f在高电平和低电平间来回波动,中断NBT应力,在电荷泵法测试阶段,栅端脉冲信号的低电压保持不变,不断改变高电压值,通过公式算出在NBT应力下产生的界面态电荷密度,其中为平均界面态密度,Icp是衬底电流,q是基本电荷量,Area是栅面积,f是脉冲频率,从而即时监控因NBTI效应所导致界面态电荷变化。

2.如权利要求1所述的测试方法,其特征在于,在施加NBT应力阶段,频率f大于1MHz。

3.如权利要求1所述的测试方法,其特征在于,在施加NBT应力过程中,分别在t=10s,20s,50s,100s,200s,500s,1000s,2000s,4000s,6000s时中断NBT应力。

4.如权利要求1所述的测试方法,其特征在于,电荷泵法测试阶段,栅端脉冲信号的高电压大于P型MOS器件的平带电压。

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