[发明专利]光电二极管、光感测组件及光电二极管的制造方法有效

专利信息
申请号: 201210097195.7 申请日: 2012-03-30
公开(公告)号: CN102738260A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 舒芳安;蔡耀州;辛哲宏 申请(专利权)人: 元太科技工业股份有限公司
主分类号: H01L31/032 分类号: H01L31/032;H01L31/105;H01L31/20;G01J1/42
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 光电二极管 光感测 组件 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光电二极管,其特征在于,包含:

一基板;

一下电极,配置于该基板上;

一N型半导体层,配置于该下电极上,其中该N型半导体层包含N型非晶型铟镓锌氧化物;

一本质半导体层,配置于该N型半导体层上,其中该本质半导体层包含本质非晶型铟镓锌氧化物,且该本质非晶型铟镓锌氧化物的含氧量高于该N型非晶型铟镓锌氧化物的含氧量;以及

一上电极,配置于该本质半导体层上。

2.根据权利要求1所述的光电二极管,其特征在于,还包含一P型半导体层,配置于该本质半导体层与该上电极之间,其中该P型半导体层的材料为铝氮锌氧化物、铝锌氧化物、锂锌氧化物、砷锌氧化物或锑锌氧化物。

3.根据权利要求2所述的光电二极管,其特征在于,该P型半导体层的厚度为300-

4.根据权利要求1所述的光电二极管,其特征在于,该N型半导体层的厚度为300-该本质半导体层的厚度为1-5μm。

5.一种光感测组件,其特征在于,包含:

一薄膜晶体管设置于一基板上,包含:

一栅极,设置于该基板上;

一栅介电层,覆盖该栅极与该基板;

一半导体通道层,设置在该栅极正上方的该栅介电层上;

一源极与一漏极,分别设置于该半导体通道层两端上;以及一光电二极管,配置在该漏极上,包含:

一N型半导体层,配置于该漏极上,且该N型半导体层包括N型非晶型铟镓锌氧化物;

一本质半导体层,配置于该N型半导体层上,其中该本质半导体层包括本质非晶型铟镓锌氧化物,且该本质非晶型铟镓锌氧化物的含氧量高于该N型非晶型铟镓锌氧化物的含氧量;以及

一上电极,配置于该本质半导体上。

6.根据权利要求5所述的光感测组件,其特征在于,该光电二极管还包含一P型半导体层配置于该本质半导体层及该上电极之间,该P型半导体层的材料为铝氮锌氧化物、铝锌氧化物、锂锌氧化物、砷锌氧化物或锑锌氧化物。

7.根据权利要求5所述的光感测组件,其特征在于,还包含:

一保护层,覆盖该源极/漏极上和该半导体通道层上,但暴露该光电二极管;以及

一导电层,配置在该保护层上,且连接该光电二极管。

8.一种如权利要求1的光电二极管的制造方法,其特征在于,包含:

提供一溅镀靶材混合物,其包含铟氧化物、镓氧化物与锌氧化物;以及

在含有氧气与氩气的气体环境进行一连续溅镀制程,以于该下电极上连续形成该N型半导体层与该本质半导体层,其中溅镀该N型半导体层时的该氧气/氩气的流量比例低于溅镀该本质半导体层时的该氧气/氩气的流量比例。

9.根据权利要求8所述的光电二极管的制造方法,其特征在于,溅镀该N型半导体层时的该氧气/氩气的流量比例为0%-15%。

10.根据权利要求8所述的光电二极管的制造方法,其特征在于,溅镀该本质半导体层时的该氧气/氩气的流量比例为2%-70%。

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