[发明专利]涂敷膜形成装置和涂敷膜形成方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种对基板涂敷处理液的涂敷膜形成装置和涂敷膜形成方法。

背景技术

例如，在FPD(平板显示器：FLAT PANEL DISPLAY)的制造过程中，利用所谓的光刻工序形成电路图案。

在该光刻工序中，在玻璃基板等基板上形成规定的膜之后，涂敷作为处理液的光致抗蚀剂(以下，称作抗蚀剂)并形成抗蚀剂膜(感光膜)。然后，与电路图案相对应地曝光上述抗蚀剂膜，对抗蚀剂膜进行显影处理，形成图案。

不过，近年来，在该光刻工序中的抗蚀剂膜的形成工序中，出于提高生产率(throughput)的目的，多采用一种一边以大致水平姿势的状态输送基板一边对基板的被处理面涂敷抗蚀剂液的结构。

作为输送基板的结构，为了防止基板支承构件转印到抗蚀剂涂敷面上而以大致水平姿势的状态使基板悬浮到规定的高度并沿基板输送方向进行输送的悬浮输送正受到关注。

基于图7说明使用了该悬浮输送的涂敷膜形成装置。

图7的涂敷膜形成装置200包括：悬浮载置台201，其用于悬浮输送作为基板的玻璃基板G；输送部件(未图示)，其用于对悬浮在悬浮载置台201上的基板G的左右两端进行保持并沿基板输送方向(X轴方向)进行输送。

在悬浮载置台201的上表面上，分别隔开恒定的间隔地交替设有用于朝上方喷射非活性气体的多个气体喷射孔(未图示)和用于进行吸气的多个吸气孔(未图示)。于是，通过使从上述气体喷射孔喷射的气体喷射量与来自上述吸气孔的吸气量之间的压力负荷恒定，使基板G从悬浮载置台201的表面悬浮到恒定的高度。

另外，在悬浮载置台201的上方，以自由升降移动的方式设有向悬浮输送的基板G的表面供给抗蚀剂液的抗蚀剂喷嘴203。

在抗蚀剂喷嘴203上连接有由抗蚀剂泵等构成的抗蚀剂供给源204，在进行涂敷处理时，从抗蚀剂供给源204向抗蚀剂喷嘴203供给抗蚀剂液。另外，供给到抗蚀剂喷嘴203的抗蚀剂液从形成在喷嘴顶端的、在基板宽度方向上较长的狭缝状的喷出口203a喷出。

另外，在悬浮载置台201的上方，在喷嘴203的附近设有用于使附着在喷嘴顶端的抗蚀剂液R均匀化(称作启动加注处理)的启动加注处理部206。

启动加注处理部206具有以自由旋转方式收容于壳体207内的启动加注辊205。喷嘴喷出口203a在靠近该启动加注辊205的状态下向该启动加注辊205喷出规定量的抗蚀剂液，启动加注辊205向规定的方向旋转，从而进行启动加注处理。另外，在壳体207内存储有用于将附着在启动加注辊205上的抗蚀剂液去除的清洗液(稀释液)

在进行涂敷处理前利用该启动加注处理部206进行启动加注处理，从而能够防止在进行涂敷处理时产生涂敷不均匀。

在该结构中，在对基板G进行涂敷处理前，启动加注处理部206靠近喷嘴顶端，向启动加注辊205上喷出规定量的抗蚀剂液。然后，启动加注辊205向规定方向旋转，从而对附着于喷出口203a的抗蚀剂液的状态进行整理(启动加注处理完成)。在启动加注处理完成时，抗蚀剂供给喷嘴203进行下降移动，如图所示，靠近在涂敷开始位置待机的基板G。

然后，基板G沿X轴方向移动，并且从喷出口203a呈带状供给抗蚀剂液，将抗蚀剂液涂敷到基板G上。

但是，在上述涂敷膜形成装置200的结构中，由于在每次针对1张基板G进行涂敷处理时都需要实施启动加注处理，因此存在各个基板G的涂敷处理的生产节拍时间变长这样的问题。

为了解决上述问题，在专利文献1中公开了一种在一个基板输送路径上配置有两个独立的抗蚀剂供给喷嘴的涂敷膜形成装置。

使用图8说明专利文献1所公开的涂敷膜形成装置的概略结构。图8所示的涂敷膜形成装置300具有用于形成基板输送路径的悬浮载置台301，该悬浮载置台301由基板输入部301A、涂敷处理部301B和基板输出部301C构成。

在基板输入部301A及基板输出部301C的上表面形成有多个气体喷射孔(未图示)，通过向基板下表面喷射从上述气体喷射孔喷射的非活性气体而使基板G悬浮。

另一方面，在涂敷处理部301B的上表面形成有多个气体喷射孔(未图示)和多个气体吸引孔(未图示)，通过从气体吸引孔吸引从气体喷射孔喷射的非活性气体，在基板上形成气流，使基板G稳定地悬浮。

另外，利用基板输送部件(未图示)对悬浮于悬浮载置台301的基板G的左右两端部进行保持，在载置台上沿着基板输送路径沿X轴方向输送基板G。