[发明专利]一种工件离子镀预处理的方法及设备有效
申请号: | 201210075554.9 | 申请日: | 2012-03-20 |
公开(公告)号: | CN102605316A | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | 文晓斌;栾亚 | 申请(专利权)人: | 文晓斌 |
主分类号: | C23C14/02 | 分类号: | C23C14/02;C23C14/32 |
代理公司: | 北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362 | 代理人: | 郭防 |
地址: | 523692 广东省东莞*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 工件 离子镀 预处理 方法 设备 | ||
1.一种工件离子镀预处理方法,其特征在于,工件在进行离子镀前需要进行清洗处理,所述清洗处理包括以下步骤:
步骤1:除蜡,将工件放置在盛有浓度为2%~4%、温度为55℃~75℃的合金铜除蜡溶液的除蜡槽中,超声波清洗500S~700S;
步骤2:第一次除油,将除蜡后的工件放置在盛有浓度为2%~4%、温度为70℃~90℃的除油粉溶液的除油槽中,超声波清洗450S~550S;
步骤3:第二次除油,将除蜡后的工件放置在盛有浓度为2%~4%、温度为40℃~50℃的除油粉溶液的除油槽中,超声波清洗80S~160S;
步骤4:漂洗,将除油后的工件放置在盛有电导率在0.8以下的去离子水的漂洗槽中,漂洗1S~3S;
步骤5:第一次润洗,将漂洗后的工件放置在盛有电导率在0.8以下的去离子水的A润洗槽内进行第一次润洗,润洗时间为1S~3S;
步骤6:第二次润洗,第一次润洗后将工件放置在盛有电导率在0.8以下的去离子水溶液的B润洗槽内进行第二次润洗,润洗时间为1S~3S;
步骤7:脱水,将第二次润洗后的工件放置在盛有酒精度为70%以上的工业甲醇溶液的脱水槽内进行脱水,脱水时间为1S~3S;
步骤8:脱甲醇、脱水,将脱水后的工件放置在盛有工碳酸氢铵溶液的脱甲醇槽内进行脱甲醇和脱水,脱甲醇和脱水的时间为1S~3S。
2.根据权利要求1所述的一种工件离子镀预处理方法,其特征在于:所述步骤1中合金铜除蜡溶液的浓度为3%,温度为70℃,超声波清洗600S;所述步骤2中除油粉溶液的浓度为3%,温度为80℃,超声波清洗480S;所述步骤3中除油粉溶液的浓度为3%,温度为45℃,超声波清洗120S。
3.根据权利要求1或2所述的一种工件离子镀预处理方法,其特征在于:所述步骤4中去离子水的电导率为0.8,漂洗时间为2S;所述步骤5中去离子水的电导率为0.8,润洗时间为2S;所述步骤6中去离子水的导电率为0.8,润洗时间为2S。
4.根据权利要求3所述的一种工件离子镀预处理方法,其特征在于:所述步骤7中酒精度的浓度为80%,脱水时间为2S;所述步骤8中脱甲醇和脱水的时间为2S。
5.一种实现权利要求1~4中任意一项所述方法所使用的工件离子镀预处理装置,其特征在于:包括依次连接的除蜡槽(1)、A除油槽(2)、B除油槽(3)、漂洗槽(4)、A润洗槽(5)、B润洗槽(6)、脱水槽(7)和脱甲醇槽(8),他们的底部均通过连接管(9)与排污管(10)连接,每根连接管(9)上均设有阀门(11)。
6.根据权利要求5所述的一种工件离子镀预处理装置,其特征在于:所述除蜡槽(1)、A除油槽(2)、B除油槽(3)的结构相同,均包括A槽体(12)、控制柜(13)和超声波发生器(14),控制柜(13)设置在A槽体(12)的一侧,超声波发生器(14)设置在A槽体(12)的底部,A槽体(12)内设有加热管(15),A槽体(12)顶部的一侧设有状态指示灯(16),超声波发生器(14)、加热管(15)和状态指示灯(16)均与控制柜(13)电连接;A槽体(12)的顶部设有保温盖(17),保温盖(17)与A槽体(12)铰接。
7.根据权利要求6所述的一种工件离子镀预处理装置,其特征在于:A槽体(12)的底部为锥形;A槽体(12)的内部设有网状隔板(18);A槽体(12)的顶部设有定位支架(19)。
8.根据权利要求5或6或7所述的一种工件离子镀预处理装置,其特征在于:漂洗槽(4)与A润洗槽(5)有一个公共壁A(20),A润洗槽(5)与B润洗槽(6)有一个公共壁B(21),公共壁A(20)的上部设有排水口A(22),公共壁B(21)的上部设有排水口B(23),排水口B(23)的高度高于排水口A(22)的高度;B润洗槽(6)内设有供液管(24),供液管(24)上设有球阀(25)。
9.根据权利要求8所述的一种工件离子镀预处理装置,其特征在于:漂洗槽(4)、A润洗槽(5),B润洗槽(6)的底部均为锥形;他们的顶部均设有A上盖(26)和定位支架(19)。
10.根据权利要求9所述的一种工件离子镀预处理装置,其特征在于:脱水槽(7)和脱甲醇槽(8)的结构相同,均包括设有B上盖(28)的B槽体(27),B槽体(27)的底部为锥形;B槽体(27)的顶部设有定位支架(19)。
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