[发明专利]彩色滤光片及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210050318.1 申请日: 2012-02-29
公开(公告)号: CN102707357A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 赵吉生 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;G02F1/1335;G03F7/00;G03F7/038;G03F7/039
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;赵爱军
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 彩色 滤光 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种彩色滤光片,包括形成于基板上的黑矩阵层,以及形成于黑矩阵层限定的次像素区域上的彩色滤光层,其特征在于,其中截面为上大下小形状的黑矩阵层,和截面为下大上小对应形状的彩色滤光层具有重合的区域,且重合区域的膜层厚度和非重合区域的膜层厚度相同。

2.根据权利要求1所述的彩色滤光片,其特征在于,黑矩阵层截面形状为倒台阶形,包括下部宽度较窄的第一子层和上部宽度较宽的第二子层,彩色滤光层的截面形状为正台阶形。

3.根据权利要求2所述的彩色滤光片,其特征在于,其中第一子层的感光材料一为正光刻胶,第二子层的感光材料二为负光刻胶;或者

第一子层的感光材料一为负光刻胶,第二子层的感光材料二为正光刻胶。

4.根据权利要求2所述的彩色滤光片,其特征在于,其中第一子层的感光材料一中和第二子层的感光材料二中均包括碱可溶性树脂,感光材料一的碱可溶性树脂的含量大于感光材料二的碱可溶性树脂的含量,感光材料一和感光材料二为,正光刻胶或负光刻胶。

5.根据权利要求4所述的彩色滤光片,其特征在于,感光材料一的碱可溶性树脂重量百分比为5%-79%,感光材料二的碱可溶性树脂重量百分比为0.05%-30%。

6.根据权利要求5所述的彩色滤光片,其特征在于,感光材料一还包括:重量百分比为5%-45%的黑颜料、重量百分比为0.5%-67%的分散剂、重量百分比为0.05%-30%的分散树脂、重量百分比为2%-25%的乙烯基不饱和单体、重量百分比为0.05%-10%的环氧树脂、重量百分比为20%-80%的溶剂、重量百分比为0.05%-10%的光起始剂、重量百分比为0.01%-2%的改变表面张力的添加剂,感光材料二还包括:重量百分比为5%-45%的黑颜料、重量百分比为0.5%-67%的分散剂、重量百分比为0.05%-30%的分散树脂、重量百分比为2%-25%的乙烯基不饱和单体、重量百分比为0.05%-10%的环氧树脂、重量百分比为20%-80%的溶剂、重量百分比为0.05%-10%的光起始剂、重量百分比为0.01%-2%的改变表面张力的添加剂。

7.根据权利要求6所述的彩色滤光片,其特征在于,改变表面张力的添加剂为流平剂、表面流动控制剂和硅烷偶联剂。

8.根据权利要求6所述的彩色滤光片,其特征在于,乙烯基不饱和单体为多官能团丙烯酸酯单体。

9.一种彩色滤光片的制造方法,用于制造如权利要求1-8任一权利要求所述的彩色滤光片,其特征在于,包括:

将第一类别光刻胶涂于基板表面;

将第二类别光刻胶涂于第一类别光刻胶上,其中第一类别光刻胶为正光刻胶和负光刻胶中的一种,第二类别光刻胶为正光刻胶和负光刻胶中的另一种;

采用掩模板对所述第二类别光刻胶进行曝光,并进行显影;

直接对所述第一类别光刻胶进行曝光,并进行显影,形成截面为上大下小形状的黑矩阵层和,和截面为下大上小对应形状的次像素区域次像素区域;

在次像素区域形成彩色滤光层。

10.根据权利要求9所述的彩色滤光片的制造方法,其特征在于,将第一类别光刻胶涂于基板表面后,进行前烘烤,之后将第二类别光刻胶涂于第一类别光刻胶上并再进行一次前烘烤。

11.一种彩色滤光片的制造方法,用于制造如权利要求1-8任一权利要求所述的彩色滤光片,其特征在于,包括:

将黑矩阵层的感光材料一涂于基板表面;

将黑矩阵感光材料二涂于材料为感光材料一的黑矩阵层上,感光材料一和感光材料二为正光刻胶,或者感光材料一和感光材料二为负光刻胶,其中感光材料一中和感光材料二中均包括碱可溶性树脂,感光材料一的碱可溶性树脂的含量大于感光材料二的碱可溶性树脂的含量;

采用掩模板对感光材料一和感光材料二进行曝光,并进行显影,形成截面为上大下小形状的黑矩阵层,和截面为下大上小对应形状的次像素区域;

在次像素区域形成彩色滤光层。

12.根据权利要求11所述的彩色滤光片的制造方法,其特征在于,将黑矩阵层的感光材料一涂于基板表面后,进行前烘烤,之后将黑矩阵感光材料二涂于黑矩阵感光材料一上并再进行一次前烘烤。

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