[发明专利]硅纳米线肖特基结型太阳能电池及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201210037106.X 申请日: 2012-02-17
公开(公告)号: CN102544183A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 揭建胜;谢超;吴春燕;王莉;彭强;于永强;郭惠尔;朱志峰 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: H01L31/07 分类号: H01L31/07;H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 代理人: 何梅生
地址: 230009 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 纳米 线肖特基结型 太阳能电池 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种硅纳米结构肖特基结型太阳能电池及其制备方法。

背景技术

对全球能源短缺危机和生态环境的不断恶化,世界各国积极研究和开发利用可再生能源,从而实现能源工业和社会的可持续发展。太阳能被认为是能源危机和生态环境恶化的最佳解决途径。

太阳能电池是通过半导体p-n结的光伏效应或者光化学效应直接把光能转化成电能的装置。p-n结型太阳能电池目前应用较为普遍,在这种太阳能电池中,p-n结区吸收入射光子,形成空穴-电子对,并在内建电场的作用下分离,从而形成光电流。其效率较高,开路电压较大,但缺点是制作工艺复杂,成本较高。肖特基势垒型太阳能电池是利用金属与半导体界面的具有整流效应的肖特基势结而构筑的太阳能电池,无需高温处理,成本低,且短波响应好。

目前,传统太阳能电池大多采用基于体硅或者薄膜硅材料制备的p-n结或者肖特基结。体硅或者薄膜硅由于其较低的比表面积,因此呈现出对太阳光较弱的吸收,且激子分离的面积有限。表面减反射层的出现与使用虽然可以一定程度上减少光吸收的损失,但是这又带来了额外的成本增加,并且减反射层带来的效果并不十分明显。因此从很大程度上制约了太阳能电池效率的提升,也限制了太阳能电池的广泛应用。

发明内容

本发明是为避免上述现有技术所存在的不足之处,提供一种光吸收能力强、且光电转换效率高的硅纳米线肖特基结型太阳能电池及其制备方法。

本发明硅纳米线肖特基结型太阳能电池的特点是具有如下结构:

在带有SiO2层的Si基底的SiO2层的表面分散有平铺的P型硅纳米线,设置在所述SiO2层上的Au源漏电极与所述P型硅纳米线形成欧姆接触,作为硅纳米线端输出电极,设置在所述SiO2层上的Ti栅极电极与所述P型硅纳米线形成肖特基结,作为太阳能电池肖特基结另一端输出电极。

本发明硅纳米线肖特基结型太阳能电池的制备方法的特点是按如下过程进行:

首先,用化学气相沉积的方法合成P型硅纳米线并将其平铺分散在带有SiO2层的Si基底的SiO2表面;随后采用紫外光刻及电子束镀膜的方式在平铺分散有P型硅纳米线的SiO2表面分别制备Au源漏电极,以及Ti栅极电极,并且使Au源漏电极与P型硅纳米线形成欧姆接触,使Ti栅极电极与P型硅纳米线形成肖特基结。

本发明硅纳米线肖特基结型太阳能电池的特点也在于具有如下结构:

在带有SiO2层的Si基底的SiO2层的表面分散有平铺的N型硅纳米线,设置在所述SiO2层上的Ti源漏电极与所述N型硅纳米线形成欧姆接触,作为硅纳米线端输出电极,设置在所述SiO2层上的Au栅极电极或Pt栅极电极与所述N型硅纳米线形成肖特基结,作为太阳能电池肖特基结另一端输出电极。

本发明硅纳米线肖特基结型太阳能电池的制备方法的特点也在于按如下过程进行:

首先用化学气相沉积的方法合成N型硅纳米线并将其平铺分散在带有SiO2层的Si基底的SiO2表面;随后采用紫外光刻及电子束镀膜的方式在平铺分散有N型硅纳米线的SiO2表面分别制备Ti源漏电极,以及Au栅极电极或Pt栅极电极,并且使Ti源漏电极与N型硅纳米线形成欧姆接触,使Au栅极电极或Pt栅极电极与N型硅纳米线形成肖特基结。

与已有技术相比,本发明有益效果体现在:

本发明设计了一种工艺简单且成本低廉的方法制备硅纳米结构肖特基结型太阳能电池,充分利用了纳米结构材料具有大的比表面积的优势,克服了传统太阳能电池光吸收能力弱的缺点,避免了使用减反射层带来的额外成本的增加。同时,硅纳米结构肖特基结又能提供了很大的结区面积供载流子分离,并能提供良好的导电路径来传输电荷,有利于太阳能电池效率的提升。

附图说明

图1为本发明硅纳米线肖特基结型太阳能电池结构示意图;

图2为基于实施例1中所制备的P型硅纳米线肖特基结型太阳能电池在黑暗下和AM 1.5G模拟光源下的电流密度与电压关系特性曲线;

图3为基于实施例2中所制备的N型硅纳米线肖特基结型太阳能电池在黑暗下和AM 1.5G模拟光源下的电流密度与电压关系特性曲线;

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