[发明专利]一种柔性不锈钢衬底上CIGS吸收层制备方法无效
申请号: | 201210035817.3 | 申请日: | 2012-02-17 |
公开(公告)号: | CN103258899A | 公开(公告)日: | 2013-08-21 |
发明(设计)人: | 马格林;张建柱;孙玉娣;彭博 | 申请(专利权)人: | 任丘市永基光电太阳能有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;C23C14/16;C23C14/34;C23C14/35;C23C14/24;C23C14/06 |
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地址: | 062550 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 柔性 不锈钢 衬底 cigs 吸收 制备 方法 | ||
1.一种柔性不锈钢衬底上CIGS吸收的层制备方法,其特征在于,其包括:在清洗后的不锈钢衬底上,溅射沉积30nm厚的Ti膜层,随后在其上沉积Mo层将Cu、Ga、Se蒸发沉积在Mo层上,形成CuGaSe2层,以增强Mo/CIGS层间的粘附性能,同时形成Ga梯度。
将In、Ga、Se蒸发沉积在CuGaSe2层上,形成(In1-xGax)3Se5预制层。
将Cu、和Se蒸发沉积在(In1-xGax)3Se5预制层上,形成富铜Cu(InGa)Se2和二次相CuxSe,Br2水溶液刻蚀二次相CuxSe,再将In、Se蒸发沉积在刻蚀后的Cu(InGa)Se2表面,形成贫铜富铟的In2Se3层,对表面形成In2Se3层的样品进行退火处理。
在In2Se3层上蒸发沉积Na2S预置层,再对样品进行高温退火处理。
2.根据权利要求1所述的CIGS吸收层的沉积方法,其特征在于:在Ar气下,在甲苯、丙酮和异丙醇依次超声清洗后的不锈钢衬底上,磁控溅射沉积30nm的Ti层,接着在Ti层表面溅射沉积Mo层。
3.根据权利要求1所述的CIGS吸收层的沉积方法,其特征在于:在380℃的Mo层表面共蒸发沉积Cu、Ga、Se,形成厚0.2μm,[Cu]/[Ga]=1.55的CuGaSe2膜层。蒸发沉积期间,Cu源的蒸发温度固定在1070℃,Se源的蒸发温度固定在185℃,Ga源的蒸发温度固定在890℃。
4.根据权利要求1所述的CIGS吸收层的沉积方法,其特征在于:在Se气氛中,1-2min内将衬底从380℃升高至400℃,在此温度下,共蒸发In、Ga、Se源16min,使In、Ga、Se在CuGaSe2膜层表面形成1.6μm、[Ga]/[In+Ga]~0.43的(InGa)3Se5预置层。(InGa)3Se5预制层沉积期间,In源的蒸发温度固定在930℃,Ga源的蒸发温度固定在1100℃,In源的蒸发温度固定在215℃;In的蒸发沉积速率为/sec,Ga的蒸发沉积速率为/sec,Se的蒸发沉积速率为/sec。
5.根据权利要求1所述的CIGS吸收层的沉积方法,其特征在于:关闭Ga源,使Ga蒸发速率降低为零后关闭In源。直至In蒸发沉积速率降低为零后,再在Se气氛中,7min内将衬底从400℃升高至590℃。
6.根据权利要求1所述的CIGS吸收层的沉积方法,其特征在于:将Cu、Se共蒸发沉积在590℃的(InGa)3Se5预制层表面,在20min内形成1.8μm、Cu]/[In+Ga]max=1.25的富铜化学计量比的Cu(InGa)Se2和二次相CuxSe。Cu(InGa)Se2和CuxSe沉积期间,Cu源的蒸发温度固定在1300℃,Cu的蒸发沉积速率为/sec。
7.根据权利要求1所述的CIGS吸收层的沉积方法,其特征在于:关闭Cu源,使样品在Se气氛中,590℃下退火2min后关闭衬底加热装置,在使衬底温度从590℃降低到300℃时关闭Se源。
8.根据权利要求1所述的CIGS吸收层的沉积方法,其特征在于:室温下,用加有浓度为0.12mol/L的KBr溶液的0.23mol/L的Br2水溶液刻蚀CIGS表面8min。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的