[发明专利]有机发光显示装置

说明书

相关申请的交叉引用

本申请要求于2011年3月21日向韩国知识产权局提交的第10-2011-0024992号韩国专利申请的权益，其公开内容以引用方式整体并入本文。

技术领域

本公开涉及有机发光显示装置，更具体地，涉及能够使由外部光的反射所引起的对比度的下降最小化的有机发光显示装置。

背景技术

有机发光显示装置是自发射型显示装置，其具有宽视角和快速响应速度。然而，当有机发光显示装置在外部光环境下显示图像时，有机发光显示装置的对比度会由于显示装置中金属构成的电极和接线所引起的外部光的反射而下降。

一般情况下，使用昂贵的偏振板来使对比度的下降最小化。然而，偏振板的使用会引起其他问题，如成本增加、由于阻止由发光层发出的光而导致透射率降低、和亮度下降。

为了使对比度下降的最小化，在电极或接线上形成黑矩阵。然而，如果使用黑矩阵，那么需要额外掩模处理来形成黑矩阵，这使得制造过程复杂。

发明内容

本发明的一个或多个实施方式提供了有机发光显示装置，通过改变反射电极表面的光学性质，该有机发光显示装置具有增强的对比度特性。

根据本发明的一个方面，提供了有机发光显示装置，其包括第一衬底；第二衬底，设置为面对所述第一衬底；第一电极，设置在所述第一衬底与所述第二衬底之间；第二电极，设置为面对所述第一电极；以及有机发光层，设置在所述第一电极与所述第二电极之间，其中所述第一电极和所述第二电极中的至少一个电极是反射电极，在所述反射电极的表面上形成光学性质修改层，所述光学性质修改层具有由所述反射电极的光学性质修改的至少一个光学性质。

所述光学性质修改层可具有比所述反射电极低的反射率。

所述光学性质修改层可具有比所述反射电极高的光吸收率。

所述光学性质修改层的所述至少一个光学性质是选自由透射率、折射率、衍射率和颜色构成的组中的一种，而且所述光学性质修改层的所述至少一个光学性质可不同于所述反射电极的光学性质。

所述光学性质修改层可通过向所述反射电极施加至少一次飞秒持续时间激光束脉冲而形成。

通过所述飞秒持续时间激光束修改的所述光学性质修改层的区域可具有纳米级尺寸或微米级尺寸。

所述光学性质修改层可形成在所述反射电极面对所述有机发光层的表面上。

从所述有机发光层发射的光可朝向所述第二衬底发射，所述光学性质修改层可形成在所述第一电极面对所述有机发光层的表面上，而且阻光层可进一步形成在所述第一衬底与所述有机发光层之间。

该有机发光显示装置可进一步包括连接至所述第一电极的至少一个薄膜晶体管(TFT)和连接至所述至少一个TFT的至少一个接线部，其中所述至少一个TFT和所述至少一个接线部形成在所述第一衬底与所述第二衬底之间，而且所述阻光层形成在所述至少一个TFT与所述第一电极之间，或者形成在所述至少一个接线部与所述第一电极之间。

所述阻光层形可成在未形成所述光学性质修改层的区域上。

从所述有机发光层发射的光可朝向所述第一衬底发射，而且所述光学性质修改层可形成在所述第二电极更靠近所述有机发光层的表面上，而且阻光层可进一步形成在所述第一衬底与所述第一电极之间。

该有机发光显示装置可进一步包括连接至所述第一电极的至少一个薄膜晶体管(TFT)和连接至所述至少一个TFT的至少一个接线部，其中所述至少一个TFT和所述至少一个接线部形成在所述第一衬底与所述第二衬底之间，而且所述阻光层形成在所述至少一个TFT与所述第一电极之间或者形成在所述至少一个接线部与所述第一电极之间。

所述阻光层可形成在未形成所述光学性质修改层的区域上。

所述第一电极和所述第二电极中的至少一个电极可以是透明电极，而且至少一个透明干涉层可进一步形成在所述透明电极的表面上，外部光通过所述透明电极的表面入射。

所述透明干涉层可具有与所述外部光的约1/4波长相等的厚度。

所述透明干涉层可具有比所述透明衬底的折射率小的折射率。

所述透明干涉层可包括选自由氟化镁、二氧化硅和高折射透明材料构成的组中的至少一种材料。

所述至少一个透明干涉层包括第一透明干涉层和第二透明干涉层，所述第二透明干涉层比所述第一透明干涉层更靠近所述透明衬底，而且所述第二透明干涉层具有比所述第一透明干涉层的折射率高的折射率。

所述至少一个透明干涉层包括多个透明干涉层，每个透明干涉层都可具有与所述外部光的约1/4波长相等的厚度。