[发明专利]电子设备及其显示方法

说明书

技术领域

本发明涉及采用光反射技术的显示技术，更具体地涉及一种采用光反射技术进行显示的电子设备及其相应显示方法。

背景技术

目前，已经开发了采用光反射技术进行显示的显示设备，诸如高通光电(QMT-Qualcomm MEMS Technology)公司开发的Mirasol显示屏。该Mirasol显示屏以被称为干涉测量调制(IMOD)的反射型技术为基础，利用环境光在无需背景光的情况下进行显示，由此大大降低了显示功耗。

然而，在观看者从不同的角度观看该Mirasol显示屏时看到的颜色会有差异，这被已知为Mirasol显示屏的色偏(color shift)。受限于Mirasol显示技术的显示原理，不可能完全消除该色偏。为了减小Mirasol显示屏的色偏，目前高通光电QMT使用扩散膜(diffuser)来使光线形成漫反射并均匀扩散，从而试图减小Mirasol显示屏的色偏现象。然而，使用扩散膜减小Mirasol显示屏的色偏现象的效果并不理想。

因此，需要一种采用光反射技术来进行显示的电子设备及其相应显示方法，该电子设备的色偏现象不明显。

发明内容

考虑到上述问题而作出了本发明，本发明的一个目的是提供一种显示方法，其通过在电子设备的像素上布置诸如凸透镜之类的光学元件使入射到所述像素上的前光会聚，来降低以不同入射角度入射到所述像素上的前光在所述像素上产生的光程差差异，从而减小从不同角度观看该电子设备时所察觉到的色偏。

根据本发明的一个方面，提供了一种显示方法，其应用于采用光反射技术来进行显示的电子设备中，该方法包括：入射光以入射角度照射到第一光学单元上；所述第一光学单元改变所述入射光的入射方向，并使得透过所述第一光学单元的入射光的入射方向改变至变换入射角度，所述变换入射角度小于所述入射角度；透过所述第一光学单元的入射光照射所述电子设备中像素的子像素，每个子像素至少包括半透射性膜和全反射性膜；以及在所述子像素的半透射性膜和全反射性膜之间的空气厚度满足预定条件时，所述子像素进行显示。

优选地，当入射光以第一入射角度照射第一光学单元时，透过所述第一光学单元的入射光以第一变换入射角度照射所述电子设备中的子像素，在所述子像素上产生的光程差为第一变换光程差，当入射光以第二入射角度照射第一光学单元时，透过所述第一光学单元的入射光以第二变换入射角度照射所述电子设备中的子像素，在所述子像素上产生的光程差为第二变换光程差。第一变换光程差与第二变换光程差之间的差异小于在没有第一光学单元的情况下的光程差差异。

优选地，所述第一光学单元与所述电子设备中的至少一个像素相对应，每个像素包括至少一个子像素。

优选地，所述电子设备中的每个像素包括三个子像素：红色子像素、蓝色子像素、绿色子像素；以及所述第一光学单元与所述三个子像素之一相对应。

优选地，所述第一光学单元被刻在所述电子设备的玻璃基板上。

优选地，所述第一光学单元被独立地形式为一层薄膜。

根据本发明的另一方面，提供了一种电子设备，其采用光反射技术来进行显示，包括：至少一个第一光学单元；以及多个像素，每个像素包括至少一个子像素，每个子像素至少包括半透射性膜和全反射性膜。入射光以入射角度照射到所述至少一个第一光学单元之一上；所述第一光学单元改变所述入射光的入射方向，并使得透过所述第一光学单元的入射光的入射方向改变至变换入射角度，所述变换入射角度小于所述入射角度；透过所述第一光学单元的入射光照射对应子像素；以及在所述对应子像素的半透射性膜和全反射性膜之间的空气厚度满足预定条件时，所述子像素利用所述入射光进行显示。

优选地，当入射光以第一入射角度照射所述第一光学单元时，透过所述第一光学单元的入射光以第一变换入射角度照射所述对应子像素，在所述对应子像素上产生的光程差为第一变换光程差，当入射光以第二入射角度照射所述第一光学单元时，透过所述第一光学单元的入射光以第二变换入射角度照射所述对应子像素，在所述对应子像素上产生的光程差为第二变换光程差。第一变换光程差与第二变换光程差之间的差异小于在没有第一光学单元的情况下的光程差差异。

优选地，每个第一光学单元与所述多个像素中的至少一个像素相对应。

优选地，每个像素包括三个子像素：红色子像素、蓝色子像素、绿色子像素；以及每个第一光学单元与所述三个子像素之一相对应。

优选地，所述至少一个第一光学单元被刻在所述电子设备的玻璃基板上。