[发明专利]一种平面型子像元结构铟镓砷红外探测器芯片有效
申请号: | 201210019745.3 | 申请日: | 2012-01-20 |
公开(公告)号: | CN102544043A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 邓洪海;唐恒敬;李淘;李雪;魏鹏;朱耀明;王云姬;杨波;龚海梅 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海技术物理研究所 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H01L31/0216 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 郭英 |
地址: | 200083 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 平面 型子像元 结构 铟镓砷 红外探测器 芯片 | ||
1.一种平面型子像元结构铟镓砷红外探测器芯片,在InP衬底(1)上通过外延方法依次生长N型InP层(2)、铟镓砷本征吸收层(3)、N型InP帽层(4)和生长氮化硅扩散掩膜层(5),然后腐蚀扩散掩膜层形成子像元扩散窗口区(6),扩散形成子像元PN结区(7)和载流子侧向收集区(8),在光敏元的两端生长单层Au形成P电极(9),在芯片表面淀积二氧化硅形成增透层(10),通过常规湿法腐蚀工艺打开P电极(9)孔,依次生长Cr、Au形成环形遮盖电极作为加厚电极(11)将所有子像元的P电极(9)引出并相连,芯片背面抛光后生长单层Au形成N电极(12);其特征在于:
A.所述的子像元扩散窗口区(6)形状为矩形,数量大于等于2,一字型并排,其间距相同,控制为10~30μm;
B.所述的P电极(9)生长在子像元两端,并使用加厚电极(11)将两端的P电极连接;加厚电极为环形遮盖电极,内围尺寸与整个器件的光敏元大小保持一致;
C.所述的子像元PN结区(7)为浅结,深度大于N型InP帽层(4)的厚度0.1~0.2μm;
D.所述的铟镓砷本征吸收层(3)厚度为1~3μm。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的