[发明专利]一种利用化学腐蚀法制备微细光纤的方法

权利要求书

1.一种利用化学腐蚀法制备微细光纤的方法，包括以下步骤：

1)设置一包括有超声波清洗机、放置有浓硫酸溶液的容器、放置有去离子水的容器和放置有氢氟酸溶液的容器的制备微细光纤的装置，所述超声波清洗机包括有清洗槽；

2)对待处理的光纤的树脂外包层进行腐蚀，具体过程为：将放置有浓硫酸溶液的容器静置于所述超声波清洗机的清洗槽中，且将所述清洗槽中加入适量的水，水平面的高度低于所述容器的顶端，将待处理的光纤浸没在所述浓硫酸溶液中，打开所述超声波清洗机的开关，将光纤在所述浓硫酸溶液中进行腐蚀后，将去除树脂外包层后的光纤取出；

3)将所述去除树脂外包层的光纤在去离子水中进行浸泡，将光纤上残留的浓硫酸溶液清洗掉后取出；

4)将盛有氢氟酸溶液的容器静置于超声波清洗机的清洗槽中，将清洗槽中加入适量的水，水平面的高度要低于容器的顶端，将经过去离子水清洗的光纤浸没在氢氟酸溶液中，打开超声清洗机的开关，将光纤在氢氟酸溶液中腐蚀后取出；

5)将经所述氢氟酸溶液腐蚀后的光纤放置于去离子水中浸泡后取出。

2.如权利要求1所述的一种利用化学腐蚀法制备微细光纤的方法，其特征在于：所述光纤为单模光纤、多模光纤中的一种。

3.如权利要求1或2所述的一种利用化学腐蚀法制备微细光纤的方法，其特征在于：所述浓硫酸的浓度、氢氟酸溶液的浓度、浓硫酸的腐蚀时间和氢氟酸的腐蚀时间根据待处理光纤的长度、待处理光纤的直径、制备光纤的长度和制备光纤的直径确定。

4.如权利要求3所述的一种利用化学腐蚀法制备微细光纤的方法，其特征在于：所述浓硫酸溶液的浓度采用70％～98％，所述氢氟酸溶液的浓度采用20％～60％。