[发明专利]电子轰击镀膜机

权利要求书

1.一种电子轰击镀膜机，适用于对基板蒸镀薄膜层，其特征在于，所述电子轰击镀膜机包括：

腔体，所述腔体内开设有提供真空环境的真空腔；

抽真空装置，所述抽真空装置与所述真空腔连通；

基板输送装置，所述基板输送装置设置于所述腔体上，所述基板输送装置承担基板于外界和所述真空腔之间的输送；

蒸发源装置，所述蒸发源装置内置于所述真空腔内并位于所述真空腔内的基板正下方，所述蒸发源装置包括装置本体及内置于所述装置本体的电子枪、偏转电极和蒸发源承装器，所述电子枪位于所述装置本体内的左端，所述蒸发源承装器位于所述装置本体内的右端，所述偏转电极位于所述电子枪和蒸发源承装器之间，且所述装置本体的顶端分别开设有与所述电子枪对应的电子枪射出口、与蒸发源承装器对应的溅镀开口，所述偏转电极使所述电子枪发出的电子束穿出电子枪射出口并射入所述溅镀开口进而使该电子束蒸发所述蒸发源承装器内的蒸发材料；

膜厚监测装置，所述膜厚监测装置包括膜厚监测仪，所述膜厚监测仪设置于所述真空腔内，且所述膜厚监测仪位于所述蒸发源装置和所述真空腔内的基板之间；以及

控制器，所述控制器分别与所述抽真空装置、电子枪、偏传电极、基板输送装置及厚膜监测仪电性连接。

2.根据权利要求1所述的电子轰击镀膜机，其特征在于，所述腔体包括相连通的副腔体和主腔体，所述主腔体位于所述副腔体的正上方，所述蒸发源装置设置于所述副腔体的真空腔内，所述基板输送装置承担基板于外界与所述主腔体的真空腔之间的输送，所述膜厚监测仪设置于所述副腔体的真空腔内并位于所述蒸发源装置的上方，且所述膜厚监测装置还设置有与所述膜厚监测仪连接的第一穿通装置，所述第一穿通装置与所述控制器电性连接并设置于所述副腔体上。

3.根据权利要求2所述的电子轰击镀膜机，其特征在于，还包括加热装置，所述加热装置包括与所述控制器电性连接的加热板、热电偶及第二穿通装置，所述加热板设置于所述主腔体的真空腔内并位于所述主腔体的真空腔内的基板正上方，所述热电偶的底端与所述加热板相对应，所述热电偶的顶端伸出所述主腔体外，所述第二穿通装置呈密封的设置于所述热电偶与所述主腔体的连接处。

4.根据权利要求2或3所述的电子轰击镀膜机，其特征在于，所述主腔体和副腔体的真空腔内均设置有可拆卸的防污板，且所述主腔体和副腔体上还均设置有观察窗及与外界冷却装置相连接的冷却管，所述主腔体的冷却管位于所述主腔体的与所述加热板相对应的侧壁外，所述主腔体的观察窗位于所述主腔体的侧壁外，且所述主腔体的观察窗与所述主腔体的真空腔内的基板相对应，所述主腔体的冷却管位于所述主腔体的观察窗的上方，所述副腔体的冷却管和观察窗均位于所述副腔体的与所述蒸发源装置相对应的侧壁外，且所述副腔体的观察窗位于所述副腔体的冷却管的上方。

5.根据权利要求4所述的电子轰击镀膜机，其特征在于，还包括观察窗遮挡装置，所述观察窗遮挡板装置包括一遮挡板及驱使所述遮挡板旋转的旋转驱动件，所述旋转驱动件安装在所述副腔体的侧壁上，且所述旋转驱动件的一端呈密封的伸入所述副腔体的真空腔内并与所述遮挡板连接，所述遮挡板遮挡所述副腔体的观察窗。

6.根据权利要求5所述的电子轰击镀膜机，其特征在于，所述副腔体还设有一维护门，所述膜厚监测仪、第一穿通装置、观察窗遮挡装置及所述副腔体的观察窗均设置于所述维护门上。

7.根据权利要求2所述的电子轰击镀膜机，其特征在于，所述基板输送装置包括磁流体密封件、传送轮及与所述控制器电性连接的基板驱动器，所述主腔体沿该主腔体的前后方向设置有两轨道，所述轨道分别位于所述主腔体内的真空腔的左右两端，所述传送轮沿所述主腔体的前后方向呈排状的设置于每一所述轨道上，两所述轨道上的传送轮之间形成供输送基板用的输送区，所述基板驱动器安装在所述主腔体上，且所述基板驱动器的输出轴沿水平方向伸入所述主腔体的真空腔内并与所述传送轮连接，所述磁流体密封件安装在所述主腔体上并密封所述基板驱动器的输出轴与主腔体的连接处。

8.根据权利要求7所述的电子轰击镀膜机，其特征在于，所述基板输送装置还包括承载于所述输送区内的小车支架，所述小车支架上设置有数个基板夹持爪，所述基板夹持爪呈分布于基板四周的设置形成基板夹持区。

9.根据权利要求7所述的电子轰击镀膜机，其特征在于，所述轨道内开设有置与外界冷却装置相连通的冷却回路。