[发明专利]一种有效提高蒸镀质量的掩模板及其制备工艺

权利要求书

1.一种有效提高蒸镀质量的掩模板，包括掩模板本体，所述掩模板本体上设有图案开口，其特征在于：所述掩模板本体的材质为4J36因瓦合金。

2.如权利要求1所述的有效提高蒸镀质量的掩模板，其特征在于：所述4J36因瓦合金按重量百分比含64%的Fe和36%的Ni。

3.如权利要求2所述的有效提高蒸镀质量的掩模板，其特征在于：所述4J36因瓦合金为面心立方结构。

4.如权利要求1所述的有效提高蒸镀质量的掩模板，其特征在于：所述掩模板本体上镍铁合金镀层的均匀性为5%～10%。

5.如权利要求4所述的有效提高蒸镀质量的掩模板，其特征在于：所述镍铁合金镀层表面光亮度为一级光亮。

6.如权利要求1所述的有效提高蒸镀质量的掩模板，其特征在于：所述掩模板厚度在0.05～0.1mm，所述图案开口尺寸为30～180μm。

7.如权利要求7所述的有效提高蒸镀质量的掩模板，其特征在于：所述图案开口尺寸为50～100μm。

8.一种掩模板的制备工艺，其特征在于，其包括如下步骤：

1）对芯模进行表面处理；

2）在所述芯模表面贴膜；

3）曝光、显影；

4）采用蚀刻液进行蚀刻；

5）褪膜。

9.根据权利要求8所述的掩模板的制备工艺，其特征在于：步骤1）中采用喷砂工艺对掩模板进行表面处理，过板速度1000～2000mm/min，喷砂压力2kg/cm²，砂目数100～1000目，喷砂种类为金刚砂。

10.根据权利要求8所述的掩模板的制备工艺，其特征在于：步骤4）进行蚀刻时，过板速度30～40Hz， 蚀刻温度30～60℃； 蚀刻液成分如下：蚀刻脱膜碱当量1～5mol/L，蚀刻比重1～6g/cm³ ，蚀刻三价铁含量100～350g/L，蚀刻pH 1～1.5。