[发明专利]IDT/AlN/金刚石多层膜结构的声表面波射频识别标签无效

专利信息
申请号: 201210001758.8 申请日: 2012-01-05
公开(公告)号: CN102637259A 公开(公告)日: 2012-08-15
发明(设计)人: 杨保和;孙素娟;徐晟;李翠平 申请(专利权)人: 天津理工大学
主分类号: G06K19/077 分类号: G06K19/077
代理公司: 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 代理人: 廖晓荣
地址: 300384 *** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: idt aln 金刚石 多层 膜结构 表面波 射频 识别 标签
【权利要求书】:

1.一种IDT/AlN/金刚石多层膜结构的声表面波射频识别标签,包括单端口谐振器与倒F天线,其特征在于所述单端口谐振器为IDT/AlN/金刚石多层膜结构;所述倒F天线在两平行臂之间的连接段ac 间并联一个电阻R和一个电容C。

2. 按照权利要求1所述的IDT/AlN/金刚石多层膜结构的声表面波射频识别标签,其特征在于所述IDT/AlN/金刚石多层膜结构中,是在硅衬底上采用微波等离子CVD法制备金刚石膜,其沉积厚度大于由该标签中心频率所决定的声表面波3倍波长。

3.按照权利要求1所述的IDT/AlN/金刚石多层膜结构的声表面波射频识别标签,其特征在于所述IDT/AlN/金刚石多层膜结构中,是在金刚石膜上采用磁控射频溅射系统制备C-轴取向的AlN薄膜,其厚度为1/5~1/4个声表面波波长。

4.按照权利要求1所述的IDT/AlN/金刚石多层膜结构的声表面波射频识别标签,其特征在于所述IDT/AlN/金刚石多层膜结构中,是在AlN薄膜上使用电子束蒸发系统制备Al膜,再用光刻系统刻蚀Al膜制成叉指换能器IDT和反射栅。

5.按照权利要求4所述的IDT/AlN/金刚石多层膜结构的声表面波射频识别标签,其特征在于所述叉指换能器IDT的电极宽度为0.5μm~1.5μm,叉指换能器IDT厚度为50nm~120nm。

6.按照权利要求4或5所述的IDT/AlN/金刚石多层膜结构的声表面波射频识别标签,其特征在于所述反射栅是由多个、间距在0.5μm~1.5μm之间选择的独立指条组成;反射栅厚度为50nm~100nm。

7.按照权利要求1-6所述的任一IDT/AlN/金刚石多层膜结构的声表面波射频识别标签,其特征在于所述倒F 型天线的天线振子水平部分为螺旋天线形式。

8.按照权利要求7所述的IDT/AlN/金刚石多层膜结构的声表面波射频识别标签,其特征在于天线是由杨白铜制成。

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