[发明专利]适合形成封装物的包含金属氧化物纳米粒子的硅氧烷组合物

权利要求书

1.一种组合物，所述组合物包含：

(A)有机聚硅氧烷组分，所述有机聚硅氧烷组分具有至少一个芳基基团且每个分子平均具有至少两个烯基基团，数均分子量不大于1500；

(B)有机氢硅氧烷组分，所述有机氢硅氧烷组分具有芳基基团和烷基基团中的至少一者，且每个分子平均具有至少两个硅键合氢原子，数均分子量不大于1500；

(C)催化量的氢化硅烷化催化剂组分；和

(D)二氧化钛纳米粒子以外的金属氧化物纳米粒子；

前提条件是所述组合物的烷基基团与芳基基团的摩尔比为1:0.25-1:3.0。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中所述有机聚硅氧烷组分包含二硅氧烷、三硅氧烷、四硅氧烷、五硅氧烷或者六硅氧烷，且具有烷基基团和芳基基团中的至少一者。

3.根据权利要求1或者2所述的组合物，其中所述烷基基团与芳基基团的摩尔比为1:0.5-1:1.5。

4.根据前述权利要求中任一项所述的组合物，其具有的表面能为19-33达因/cm。

5.根据前述权利要求中任一项所述的组合物，其中所述金属氧化物纳米粒子包含二氧化锆(ZrO₂)。

6.根据权利要求1-4中任一项所述的组合物，其中所述金属氧化物纳米粒子包含Al₂O₃、V₂O₅、ZnO、SnO₂或者它们的混合物。

7.根据前述权利要求中任一项所述的组合物，其中所述金属氧化物纳米粒子的平均粒度为1-50纳米。

8.根据权利要求1-6中任一项所述的组合物，其中所述金属氧化物纳米粒子的平均粒度小于10纳米。

9.根据前述权利要求中任一项所述的组合物，其中组分(A)包含具有下式的二硅氧烷：

(I)R¹R²R³SiOSiR¹R²R³

其中每个R¹、R²和R³独立地包含烷基基团、芳基基团或者烯基基团。

10.根据权利要求9所述的组合物，其中所述二硅氧烷具有下式：

(i)ViPhMeSiOSiViPhMe

其中Vi为乙烯基基团，Ph为苯基基团，Me为甲基基团。

11.根据权利要求1-8中任一项所述的组合物，其中组分(A)包含所述三硅氧烷和所述四硅氧烷中的至少一者，所述三硅氧烷和所述四硅氧烷各自独立地具有下式：

(II)(R¹R³₂SiO)_4-aSiR⁴_a

其中每个R¹和R³独立地包含烷基基团、芳基基团或者烯基基团，R⁴包含烷基基团或者芳基基团，下标a对于所述四硅氧烷为0，或者对于所述三硅氧烷为1。

12.根据权利要求11所述的组合物，其中所述三硅氧烷和所述四硅氧烷各自独立地具有下式：

(ii)(ViR³₂SiO)_4-aSiR⁴_a

其中Vi为乙烯基基团，每个R³和R⁴独立地包含苯基基团或者甲基基团，下标a对于所述四硅氧烷为0，或者对于所述三硅氧烷为1。