[发明专利]集成显示器的光学加速计

说明书

技术领域

本公开涉及显示器及加速计。

相关技术描述

机电系统包括具有电气及机械元件、致动器、换能器、传感器、光学组件（例如，镜子）以及电子器件的设备。机电系统可以在各种尺度上制造，包括但不限于微米尺度和纳米尺度。例如，微机电系统（MEMS）器件可包括具有范围从大约一微米到数百微米或以上的大小的结构。纳米机电系统（NEMS）器件可包括具有小于一微米的大小（包括，例如小于几百纳米的大小）的结构。机电元件可使用沉积、蚀刻、光刻和/或蚀刻掉基板和/或所沉积材料层的部分或添加层以形成电气及机电器件的其它微机械加工工艺来制作。

一种类型的机电系统器件称为干涉测量（interferometric）调制器（IMOD）。如本文所使用的，术语干涉测量调制器或干涉测量光调制器是指使用光学干涉原理来选择性地吸收和/或反射光的器件。在一些实现中，干涉测量调制器可包括一对导电板，这对导电板中的一者或两者可以完全或部分地是透明的和/或反射式的，且能够在施加恰适电信号时进行相对运动。在一实现中，一块板可包括沉积在基板上的静止层，而另一块板可包括与该静止层相隔一气隙的金属膜。一块板相对于另一块板的位置可改变入射在该干涉测量调制器上的光的光学干涉。干涉测量调制器器件具有范围广泛的应用，且预期将用于改善现有产品以及创造新产品，尤其是具有显示能力的那些产品。

概述

本公开的系统、方法和设备各自具有若干个创新性方面，其中并不由任何单个方面全权负责本文中所公开的期望属性。

本公开中所描述的主题内容的一个新颖性方面可在加速计中实现，该加速计包括：光源，基板，光导，该光导附连到该基板的第一侧并配置成将来自该光源的光重新定向穿过该基板。该加速计还包括光检测器和通过一个或多个弹簧附连到该基板的第二侧的检验质量块，其中，第二侧与第一侧相对，并且其中，该检验质量块的运动改变从该光源到达该光检测器的光的特性。

在一些实现中，加速计可包括配置成基于到达光检测器的光的特性来确定加速度的处理器。在一些实现中，该加速计可包括后侧光导，其与该光导相对地沉积在该基板上并配置成将光重新定向回穿过该基板。在一些实现中，该光的特性可以是光的强度。在一些实现中，该光的特性可以是光的偏振或波长。在一些实现中，这一个或多个弹簧可包括具有不同弹簧常数的两个弹簧。

在另一个方面，确定加速度的方法包括：将光定向穿过基板朝向检验质量块，以及基于该光的特性来确定加速度。

在一些实现中，该光的特性可以是光的强度。在一些实现中，该光的特性可以是偏振或波长。在一些实现中，该检验质量块的运动可改变该光的特性。在一些实现中，该光的特性可例如由检测器确定。

在另一个方面，加速计包括：用于将光定向穿过基板朝向检验质量块的装置，以及用于基于该光的特性来确定加速度的装置

在一些实现中，该加速计还可包括用于生成光的装置和用于确定该光的特性的装置。在一些实现中，此用于生成光的装置可包括光源，此用于将光定向的装置可包括光导，此用于确定特性的装置可包括光检测器，并且此用于确定加速度的装置可包括处理器。

在另一方面，制造显示设备的方法包括：提供基板，将光源和光检测器放置于该基板的近端，将光导沉积或蚀刻到该基板的第一侧上，其中该光导配置成将来自该光源的光重新定向穿过该基板，以及形成通过一个或多个弹簧附连到该基板的第二侧的检验质量块，其中该第二侧与该第一侧相对，并且其中该检验质量块的运动改变从该光源到达该光检测器的光的特性。

在一些实现中，该方法可包括配置处理器以基于到达该光检测器的光的该特性来确定加速度。在一些实现中，形成附连到该基板的第二侧的检验质量块可包括：蚀刻、沉积、或光刻。

在另一个方面，加速计包括通过具有不同弹簧常数的至少两个弹簧附连到支承并配置成生成或反射光的光学元件，以及配置成确定该光的强度的光检测器。

在一些实现中，该加速计包括配置成基于所确定的强度来确定加速度的处理器。

在一些实现中，该光学元件可包括光源。在一些其他实现中，该光学元件可包括镜子。在一些实现中，这至少两个弹簧包括附连到该光学元件的相对侧的、具有不同弹簧常数的至少两个弹簧。

本说明书中所描述的主题内容的一个或多个实现的详情在附图及以下描述中阐述。其它特征、方面和优点将从该描述、附图和权利要求书中变得明了。注意，以下附图的相对尺寸可能并非按比例绘制。

附图简要说明