[发明专利]成形体、其制备方法、电子装置用部件及电子装置有效
申请号: | 201180050643.1 | 申请日: | 2011-07-27 |
公开(公告)号: | CN103249767A | 公开(公告)日: | 2013-08-14 |
发明(设计)人: | 岩屋涉;近藤健 | 申请(专利权)人: | 琳得科株式会社 |
主分类号: | C08J7/00 | 分类号: | C08J7/00;B32B27/00;B32B27/30;C23C14/48 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 林毅斌;李进 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 成形 制备 方法 电子 装置 部件 | ||
技术领域
本发明涉及成形体、其制备方法、含有所述成形体的电子装置用部件及具备所述电子装置用部件的电子装置。
背景技术
目前,塑料薄膜等高分子成形体因价格低廉、加工性优异而被赋予所希望的功能,用于各种领域。
例如,对于食品或药品的包装用薄膜,为抑制蛋白质、油脂等的氧化和变质,保持味道和鲜度,使用防止水蒸气、氧的透过的阻气性塑料薄膜。
另外,近年来,对于液晶显示器或电致发光(EL)显示器等显示器,为实现薄型化、轻量化、挠性化等,作为具有电极的基板,研究了使用透明塑料薄膜代替玻璃板。但是,塑料薄膜存在与玻璃板相比易透过水蒸气、氧等,易引起显示器内部元件劣化的问题。
为解决此问题,专利文献1中提出了在透明塑料薄膜上层叠由金属氧化物形成的透明阻气层的挠性显示器基板。
但是,由于该文献记载的挠性显示器基板为在透明塑料薄膜表面通过蒸镀法、离子镀膜法、溅射法等来层叠由金属氧化物形成的透明阻气层而得的基板,所以若将该基板卷起或弯折,则有阻气层产生裂纹,从而阻气性降低的问题。
另外,专利文献2中公开了塑料薄膜和在该塑料薄膜的至少一面上层叠以聚有机硅倍半氧烷为主要成分的树脂层而成的阻气性层叠体。
但是,为获得氧、水蒸气等的阻气性,需要进一步层叠无机化合物层,所以存在工序复杂或成本增加,有使用具有毒性的气体的危险性等问题。
专利文献3中公开了在薄膜的至少一面上形成聚硅氮烷膜,对该硅氮烷膜实施等离子体处理,制备阻气性薄膜的方法。
但是,在该方法中,存在若使阻气层的厚度为微米级则无法产生充分的阻气性能的问题。例如,记载有若将阻气层的厚度设为0.1μm,则水蒸气透过率为0.50g/m2/天。
另外,专利文献4中提出了在聚硅氮烷膜中混合丙烯酸类树脂而得的膜,但不具有足够的阻气性。
先前技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2000-338901号公报
专利文献2:日本特开2006-123307号公报
专利文献3:日本特开2007-237588号公报
专利文献4:日本特开平7-292321号公报。
发明内容
发明所要解决的课题
本发明鉴于上述现有技术而成,其目的在于,提供阻气性、透明性和耐弯折性优异的成形体、其制备方法、含有该成形体的电子装置用部件和具备该电子装置用部件的电子装置。
解决课题的手段
本发明人为解决上述课题而深入研究,结果发现一种具有阻气层的成形体,上述阻气层具有由至少含有碳原子、氧原子和硅原子的材料构成的表层部,在该表层部中,相对于碳原子、氧原子、氮原子和硅原子的总存在量,碳原子的存在比例为超过0%且70%以下,氧原子的存在比例为10%以上且70%以下,氮原子的存在比例为0%以上且35%以下,硅原子的存在比例为20%以上且55%以下,所述成形体具有优异的阻气性、透明性和耐弯折性。另外,发现这样的成形体可通过向在表面部具有含有聚硅氮烷化合物和丙烯酸类树脂的层的成形物的上述含有聚硅氮烷化合物和丙烯酸类树脂的层中注入离子,而简便且有效地制备,从而完成本发明。
这样,根据本发明的第1方面,提供下列(1)~(7)的成形体。
(1) 成形体,所述成形体为具有阻气层的成形体,其特征在于,所述阻气层具有由至少含有碳原子、氧原子和硅原子的材料构成的表层部,在所述表层部中,相对于碳原子、氧原子、氮原子和硅原子的总存在量,碳原子的存在比例为超过0%且70%以下,氧原子的存在比例为10%以上且70%以下,氮原子的存在比例为0%以上且35%以下,硅原子的存在比例为20%以上且55%以下。
(2) (1)中记载的成形体,其特征在于,上述阻气层为含有聚硅氮烷化合物和丙烯酸类树脂的层,在40℃、相对湿度为90%的环境下的水蒸气透过率为1g/m2/天以下。
(3) (2)中记载的成形体,其中,相对于聚硅氮烷化合物和丙烯酸类树脂的总量,丙烯酸类树脂的含量为0.1质量%以上且70质量%以下。
(4) (1)~(3)的任一项中记载的成形体,其特征在于,上述阻气层具有向含有聚硅氮烷化合物和丙烯酸类树脂的层中注入离子而得的层。
(5) (4)中记载的成形体,其特征在于,上述离子为将选自氢、氮、氧、氩、氦、氖、氙、氪、硅化合物和烃的至少一种气体离子化而得的离子。
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