[发明专利]透明基质的光学质量分析方法和装置有效
申请号: | 201180017405.0 | 申请日: | 2011-03-28 |
公开(公告)号: | CN103097879B | 公开(公告)日: | 2017-01-18 |
发明(设计)人: | M.皮雄;F.达韦纳 | 申请(专利权)人: | 法国圣戈班玻璃厂 |
主分类号: | G01N21/958 | 分类号: | G01N21/958 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 臧永杰,卢江 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透明 基质 光学 质量 分析 方法 装置 | ||
1.基质(2)的透明表面的分析装置(1),包括:标尺(10),其面对待测量的基质的表面形成在支撑件(11)上;照相机(3),用于捕获由被测量的基质变形的标尺的至少一个图像;标尺照明系统(4);以及连接到照相机(3)的图像处理/数字分析部件(5),其特征在于,支撑件(11)具有小的和大的伸展的长方形形状,标尺是单方向的并由沿支撑件的小伸展延伸的图案(10)构成,图案(10)横向于小的伸展是周期性的;以及,照相机是线性的并被定位用于沿支撑件(11)的大的伸展获得标尺通过基质的透射的线性图像。
2.根据权利要求1所述的装置(1),其中,支撑件(11)的大的伸展和支撑件(11)的小的伸展之比例如等于或大于10,优选等于或大于20。
3.根据权利要求1或2所述的装置(1),其中,图案(10)包括至少一个沿支撑件(11)的小的伸展具有在0.1mm和5cm之间、优选在1mm和2mm之间的宽度的线。
4.根据上述权利要求中任一项所述的装置(1),其中,图案由浅淡和深重的线的交替连续构成。
5.根据上述权利要求中任一项所述的装置(1),其中,标尺的支撑件(11)由通过照明系统(4)背光的板构成。
6.根据权利要求5所述的装置(1),其中,支撑件(11)在其面对待测量的玻璃板的面上是半透明的和漫射的,例如是白色塑料片材。
7.根据上述权利要求中任一项所述的装置(1),其中,基质(2)放置在标尺(10)和照相机(3)之间,用于测量透射。
8.根据上述权利要求中任一项所述的装置(1),其中,标尺(10)的支撑件(11)被安装以相对于基质(2)垂直于基质(2)在其中运行的平面移动。
9.根据权利要求8所述的装置(1),包括升高/降低机械系统,用于更远离或靠近于基质地移动标尺的支撑件,而仍保持由照相机捕获的标尺的图像的足够的清晰度。
10.根据上述权利要求中任一项所述的装置(1),包括存储器,在存储器中记录合适的程序,用于:
-借助线性照相机获得被照亮的标尺的透射的线性图像,基质或标尺沿与缺陷方向和标尺的线平行的单一运行方向相对彼此移动,
-(1)获取沿标尺的大的伸展得到的线性图像的像素行,而不相对标尺移动照相机,
—(2)对获取的像素行做数字处理,以便对于每个像素行计算表示基质对由基质透射的光的效果的量,例如每个像素的光学功率;
-(3)在存储器中存储对于行的每个像素的该量的值并显示像素行的图像,其中每个像素的颜色表示该量;
-周期性多次重复获取/处理/显示(1)(2)(3)的循环,并堆叠像素行的图像,以便重构基质的一部分的图像;和
-通过数字处理分析重构图像,以从总推断缺陷的位置并量化它们的严重性。
11.根据权利要求10所述的装置,其特征在于,行获取周期大于每个行的获取时间,例如0.1秒或更长。
12.借助于装置分析基质(2)的透明的或反射的表面的方法,所述装置包括形成在有小的和大的伸展的长方形形状的支撑件(11)上的标尺(10),用于获得由被测量的基质变形的标尺的至少一个图像的线性照相机(3),标尺照明系统(4),以及连接到照相机(3)的图像处理/数字分析部件(5),所述方法包括步骤:
-借助线性照相机获得被照亮的标尺的透射的线性图像,基质或标尺沿与缺陷的方向和标尺的线平行的单一运行方向相对彼此移动;
-(1)获取沿标尺的大的伸展得到的线性图像的像素行,而不相对标尺移动照相机;
-(2)对获取的像素行做数字处理,以便对于每个像素行计算表示基质对由基质透射的光的效果的量,例如每个像素的光学功率;
-(3)在存储器中存储对于行的每个像素的该量的值并显示像素行的图像,其中每个像素的颜色表示该量;
-周期性多次重复获取/处理/显示(1)(2)(3)的循环,并堆叠像素行的图像,以便重构基质的一部分的图像;和
-通过数字处理分析重构图像,以从中推断缺陷的位置并量化它们的严重性。
13.根据权利要求12所述的方法,其中,在每个步骤(2)之后每个行被显示,以便基质的一部分的重构图像模拟与缺陷二维图形的实时显示对应的连续运行效果。
14.根据权利要求12或13所述的方法,其中,基质是连续玻璃带。
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