[实用新型]贴片二极管的改良结构有效

专利信息
申请号: 201120341322.4 申请日: 2011-09-13
公开(公告)号: CN202205759U 公开(公告)日: 2012-04-25
发明(设计)人: 张国俊;徐仁庆 申请(专利权)人: 康可电子(无锡)有限公司
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L23/488
代理公司: 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 代理人: 陈忠辉
地址: 214142 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 二极管 改良 结构
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种分离器件结构,尤其涉及一种贴片二极管的结构工艺改良。

背景技术

贴片二极管(叠料产品)生产过程中,因原产品结构不合理,焊接过程中,两颗晶粒之间极易产生锡珠,在应用过程中存在较高的风险;并且在成型过程中,对贴片二极管外的封装极易出现露铜不良(如图2所示),过程检验剔除难度较大,且无法100%剔除,投诉风险增加。

具体来看如图1至图4所示,贴片二极管为由两个晶片2相对叠合而成,且每个晶片2各具有支撑自身的铜质框架1,该铜质框架1在晶片叠合的端部具有沉降区11,该沉降区11背向沉降方向设有凸台12,并且铜质框架1在沉降区11弯折处设有穿孔13。从传统产品尺寸结构分析,原始沉降区的厚度为0.54mm,凸台高度为0.16mm,且穿孔直径为0.5mm。通过技术分析发现:产生上述锡珠3及露铜不良5的主要与铜质框架的尺寸结构有关。

发明内容

鉴于上述现有叠料产品结构的缺陷,本实用新型的目的是提出一种贴片二极管的改良结构,以提高良品率,降低产品的使用风险。

本实用新型的上述目的,其技术解决方案为:

贴片二极管的改良结构,所述贴片二极管为由两个晶片相对叠合而成,且每个晶片各具有支撑自身的铜质框架,所述铜质框架在晶片叠合的端部具有沉降区,所述沉降区背向沉降方向设有凸台,并且铜质框架在沉降区弯折处设有穿孔,其特征在于:所述凸台的厚度薄至0.06mm,且所述穿孔与沉降区底面不相干涉。

实施本实用新型的技术方案并将其投入生产工艺后,两晶粒片焊接后锡珠的不良比例由改善前的10%下降至0.5%,而经产品成型后料片露铜不良的状况也由改善前的1.3%降低至0,显然大幅提升了成品良率,并且降低了用户的使用风险。

附图说明

图1是传统铜质框架的部分正视结构示意图;

图2是图1的侧视图;

图3是传统产品叠合焊接产生锡珠的示意图;

图4是传统产品成型后产生露铜不良的示意图;

图5是本实用新型改进后的铜质框架部分正视结构示意图;

图6是图5的侧视图;

图7是本实用新型产品叠合焊接后成型前的结构示意图。

具体实施方式

以下便结合实施例附图,对本实用新型的具体实施方式作进一步的详述,以使本实用新型技术方案更易于理解、掌握。

本实用新型针对传统贴片二极管良品率低下、应用品质风险高的问题,深入研究导致该缺陷产生的原因,终发现并对其中的产品工艺尺寸提出改良方案,以使该长期困扰生产者的客户投诉问题得以有效解决。

具体来看如图5和图6所示,其结构改良的具体方案为:首先降低凸台厚度,将其减薄至0.06mm,这样可以有效减小贴片二极管的厚度尺寸,减少焊接用锡料,进而避免挤压产生锡珠(如图7所示)。再者为改善露铜不良,在产品加工过程中设计将穿孔的位置纵向向外移动0.5mm,移出沉降区底面,使两者不相干涉。这样对于先打孔后弯折的工艺,能避免在沉降区底面形成毛刺,因而能有效降低露铜不良的现象再次发生。

通过实施以上技术改进,所制得的贴片二极管的锡珠不良由改善前的10%下降至0.5%,而经产品成型后料片露铜不良的状况也由改善前的1.3%降低至0,显然大幅提升了成品良率,并且降低了用户的使用风险。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于康可电子(无锡)有限公司,未经康可电子(无锡)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120341322.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top