[实用新型]用于多晶硅副产物四氯化硅处理的脱酸器无效
申请号: | 201120073909.1 | 申请日: | 2011-03-18 |
公开(公告)号: | CN202054619U | 公开(公告)日: | 2011-11-30 |
发明(设计)人: | 严大洲;毋克力;肖荣晖;汤传斌;谢正和;杜俊平;谢冬晖;汪绍芬;郭富东 | 申请(专利权)人: | 中国恩菲工程技术有限公司 |
主分类号: | C01B33/12 | 分类号: | C01B33/12;C01B7/01 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成 |
地址: | 100038*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 多晶 副产物 氯化 处理 脱酸 | ||
1.一种用于多晶硅副产物四氯化硅处理的脱酸器,其特征在于,包括:
脱酸器本体,所述脱酸器本体内限定有脱酸腔,所述脱酸器本体的上部设有尾气出口和脱酸器出料口,所述脱酸器本体的下部设有脱酸蒸汽入口和脱酸器进料口;和
加热管,所述电加热管设置在所述脱酸器本体上且伸入所述脱酸腔内。
2.根据权利要求1所述的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的脱酸器,其特征在于,所述脱酸器本体包括:
扩大段,所述扩大段的下部为截锥形,所述尾气出口形成在所述扩大段的顶部且所述脱酸器出料口形成在所述扩大段下部的斜面上;
炉身,所述炉身的上端与所述扩大段的下端相连,其中所述加热管安装在所述炉身上;和
炉底,所述炉底的上端与所述炉身相连且所述脱酸蒸汽入口和所述脱酸器进料口分别形成在所述炉底的侧面上。
3.根据权利要求2所述的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的脱酸器,其特征在于,所述炉底的底端设有排渣口。
4.根据权利要求2所述的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的脱酸器,其特征在于,所述炉身的侧面上分别设有吹扫口和测温口,所述吹扫口邻近所述炉身的上端和下端。
5.根据权利要求2所述的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的脱酸器,其特征在于,所述扩大段的侧面设有高于所述脱酸器出料口的料位检测口。
6.根据权利要求5所述的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的脱酸器,其特征在于,所述扩大段的侧面上设有平衡口。
7.根据权利要求5所述的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的脱酸器,其特征在于,所述扩大段的侧面上还设有观察口。
8.根据权利要求2所述的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的脱酸器,其特征在于,所述扩大段、炉身和炉底为回转体且它们的径向尺寸依次减小。
9.根据权利要求8所述的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的脱酸器,其特征在于,所述炉底包括与所述炉身相连的圆筒段和与所述圆筒段相连的锥形段。
10.根据权利要求2-9中任一项所述的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的脱酸器,其特征在于,所述加热管分布在所述炉身的整个表面上。
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