[实用新型]图像传感器有效

专利信息
申请号: 201120003828.4 申请日: 2011-01-07
公开(公告)号: CN201966212U 公开(公告)日: 2011-09-07
发明(设计)人: 霍介光 申请(专利权)人: 格科微电子(上海)有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H04N5/374
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆苏华
地址: 201203 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 图像传感器
【权利要求书】:

1.一种图像传感器,其特征在于,包括形成于衬底上的光电二极管;依次覆盖于所述光电二极管上的绝缘层和透明导电层;所述透明导电层具有负电压信号加载端。

2.如权利要求1所述的图像传感器,其特征在于,所述透明导电层的厚度在的范围内。

3.如权利要求1所述的图像传感器,其特征在于,所述绝缘层的厚度在的范围内。

4.如权利要求1所述的图像传感器,其特征在于,还包括连接于透明导电层的插塞,所述插塞与外部负电压信号源相连。

5.如权利要求1所述的图像传感器,其特征在于,还包括用于向光电二极管传输电荷的传输管,所述传输管的输出端与光电二极管相连。

6.如权利要求5所述的图像传感器,其特征在于,所述传输管为MOS管。

7.如权利要求6所述的图像传感器,其特征在于,所述衬底为P型硅衬底,所述图像传感器还包括位于所述P型硅衬底上的多个P型阱区、以及形成于P型区中用于隔离各个显示单元的浅沟槽隔离区;所述显示单元包括第一区域和第二区域,所述MOS管位于显示单元的第一区域,所述光电二极管位于显示单元的第二区域。

8.如权利要求7所述的图像传感器,其特征在于,所述MOS管包括:位于所述P型阱区上的栅极和栅极电介质,包围所述栅极电介质和栅极的侧墙,以及位于所述栅极和栅极电介质下方P型阱区表面处的掺杂区。

9.如权利要求8所述的图像传感器,其特征在于,所述光电二极管包括:位于P型的硅衬底中、且连接于MOS管的N型深掺杂区。

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