[发明专利]注入装置及处理设备

权利要求书

1.一种用于将处理气体注入处理腔室的注入装置，其特征在于，所述注入装置包括注入板，所述注入板具有多个喷嘴，通过所述喷嘴将所述处理气体注入处理腔室，

其中所述喷嘴包括：

形成在注入板中的注入孔，以及

遮蔽物，其与所述注入孔对应以遮蔽所述注入孔；

其中，所述遮蔽物为微致动器。

2.如权利要求1所述的注入装置，其特征在于，其中所述微致动器能够被单独控制或者成组地控制。

3.如权利要求1所述的注入装置，其特征在于，其中所述微致动器为静电微致动器，其包括一个或多个遮蔽单元，所述遮蔽单元包括：

弹性主体，其由第一弹性材料形成；

正电极，其附连到用于正电极的弹性主体，

负电极，其附连到用于负电极的弹性主体，以及

第二弹性材料，设置在所述正电极和所述负电极之间，

其中，所述正电极和所述负电极彼此电分隔，并且

其中，通过所述正电极和负电极施加静电力来使所述第一弹性材料和所述第二弹性材料发生形变，从而控制对对应的注入孔的遮蔽。

4.如权利要求3所述的注入装置，其特征在于，其中所述遮蔽单元能够被单独控制或者成组地控制。

5.如权利要求3所述的注入装置，其特征在于，其中所述正电极和负电极交替设置。

6.如权利要求3所述的注入装置，其特征在于，其中所述正电极和负电极的表面进一步形成有绝缘材料层。

7.如权利要求3所述的注入装置，其特征在于，其中第二弹性材料将比所述第一弹性材料易于发生变形。

8.如权利要求3所述的注入装置，其特征在于，其中相邻的所述遮蔽单元之间在未发生变形的正常情况下形成有间隙。

9.如权利要求3所述的注入装置，其特征在于，其中相邻的所述弹性主体之间形成有供处理气体通过的开口。

10.如权利要求1所述的注入装置，其特征在于，其中所述注入板还具有：

多个传感器，其每一与一个所述喷嘴对应以感测针对对应的喷嘴的参数。

11.如权利要求10所述的注入装置，其特征在于，其中所述传感器包括：

流量传感器，以原位地感测通过对应的喷嘴的气体的流量；和/或

温度传感器，以感测对应的喷嘴附近的温度；和/或

压力传感器，以感测对应的喷嘴附近的压力。

12.如权利要求1所述的注入装置，其特征在于，其中所述注入板还具有：

无线通信装置，其工作连接到所述微致动器，以无线地接收对微致动器的控制信号；

其中，所述控制信号用于控制微致动器对相应注入孔的遮蔽。

13.如权利要求10所述的注入装置，其特征在于，其中所述注入板还具有：

无线通信装置，其工作连接到所述微致动器和所述传感器，以无线地发送传感器的感测信号和接收对微致动器的控制信号；

其中，所述控制信号用于控制微致动器对相应注入孔的遮蔽。

14.如权利要求1所述的注入装置，其特征在于，其中所述微致动器从所述注入装置的边缘到中心径向地分布。

15.如权利要求1所述的注入装置，其特征在于，其中所述微致动器从所述注入装置的边缘到中心彼此等距离地分布。

16.如权利要求11所述的注入装置，其特征在于，其中根据设定的目标流量，利用流量传感器的反馈闭环地自动控制所述微致动器对相应注入孔的遮蔽，从而将通过相应注入孔的流量基本维持于所述目标值。

17.如权利要求11所述的注入装置，其特征在于，其中所述注入板由硅(Si)或碳化硅(SiC)制成，所述传感器、无线通信装置、所述致动器集成到所述注入板。

18.如权利要求1所述的注入装置，其特征在于，其适于利用所述注入气体在置于所述处理腔室中的工件上进行沉积或进行刻蚀。

19.如权利要求1所述的注入装置，其特征在于，其中孔的尺寸为50μm至500μm，致动器的厚度为20μm至200μm。