[发明专利]溅射装置

说明书

技术领域

本发明涉及溅射装置，尤其涉及形成有机发光显示装置的薄膜封装层的溅射装置。

背景技术

溅射装置为在被沉积对象形成沉积膜的装置。

最近，在有机发光显示装置的制造工序中，通过在形成于基板的有机发光器件上交替地层叠无机膜和有机膜来形成将有机发光器件封装的薄膜封装层时，使用溅射装置来形成无机膜。

然而，由于有机发光器件和有机膜所包含的有机物的耐热性较差，因此现有的溅射装置不能在高温下加热基板，从而存在因溅射装置所形成的无机膜的质量降低的问题。

发明内容

本发明的一实施例用于解决上述的问题，其目的在于提供用于形成将有机发光器件封装的薄膜封装层的、无机膜的质量得以提高的溅射装置。

为了实现上述的技术目的，本发明一方面提供一种溅射装置，所述溅射装置包括：具有磁性的多个靶；位于所述多个靶中相邻的靶之间并且具有磁性的反射体；位于所述靶上、形成引导(guide)微波(microwave)的导引空间并且具有磁性的波导器；以及位于所述波导器上，与所述靶、所述反射体以及所述波导器一起形成电子回旋共振(electron cyclotron resonance)区域并且具有磁性的限幅器。

所述靶可以是自旋的。

所述靶可以包括：在内部形成有圆形空间并且与所述电子回旋共振区域相邻的靶本体、以及与所述靶本体相接并且位于所述圆形空间的第一磁性体。

所述反射体可以包括：与所述电子回旋共振区域相邻的反射板、以及与所述反射板相邻的第二磁性体。

所述波导器可以包括：是沿着所述电子回旋共振区域的外围延伸的闭环(closed loop)形态并且形成所述导引空间的导引本体，与所述导引本体连接以向所述导引空间供应所述微波的波供应部，与所述电子回旋共振区域相邻的窗体，位于所述导引本体和所述窗体之间并且沿着所述导引本体延伸并且与所述导引本体相比更接近于所述电子回旋共振区域的第三磁性体，以及贯通所述第三磁性体并且使所述导引空间和所述窗体之间连通的槽。

所述限幅器可以包括互相间隔设置的多个第四磁性体。

所述电子回旋共振区域可以具有1微托(μTorr)至1毫托(mTorr)的压力。

等离子体(plasma)可以在所述电子回旋共振区域中放电。

所述溅射装置可以形成将形成在基板上的有机发光器件封装的无机膜。

根据解决上述本发明技术问题的技术方案中的一部分实施例之一，提供使形成将有机发光器件封装的薄膜封装层的无机膜质量得以提高的溅射装置。

附图说明

图1为根据本发明一实施例的溅射装置的截面示意图；

图2为图1所示的波导器的立体示意图；

图3为通过根据本发明一实施例的溅射装置形成沉积膜的示意图。

附图标记说明

100：靶；        200：反射体；

300：波导器；    400：限幅器。

具体实施方式

下面，参考附图，对本发明的实施例进行详细的说明，使得所属技术领域的技术人员能够轻易地实施。然而，本发明能够以多种不同的方式实施，并不限于在本说明书中说明的实施例。

在附图中省略了无关的部分以清楚地说明本发明。在整体说明书中，对相同或者类似的组成要素使用了相同的附图标记。

并且，为了便于说明任意地显示了在幅图中出现的各个组成的大小及厚度，因而本发明并不限于附图所示的情况。

在整体说明书中，若某一部分“包括”某一组成要素时，除了存在特别相驳的记载之外，并不排除其他的组成要素，而意味着还可以包括其他的组成要素。并且，在整体说明书中，“...上”意味着对象部分的上部或者下部，并非仅意味着位于以重力方向为基准时的上侧。

下面，参考图1至图3，对根据本发明一实施例的溅射装置进行说明。

图1为根据本发明一实施例的溅射装置的截面示意图。

如图1所示，根据本发明一实施例的溅射装置可以设置于腔室(chamber)内部，在作为被沉积对象的、形成有有机发光器件20的基板10上形成沉积膜。溅射装置包括：形成电子回旋共振(electron cyclotron resonance)区域ECRA的靶100(target)、反射体200(reflector)、波导器300(wave guide)以及限幅器400(limiter)。

靶100具有磁性并且设置有多个。靶100进行自旋，并且其包括：靶本体110以及第一磁性体120。