[发明专利]溅射装置

权利要求书

1.一种溅射装置，包括：

多个靶，具有磁性；

反射体，位于所述多个靶中相邻的靶之间，并且具有磁性；

波导器，位于所述靶上，形成引导微波的导引空间，并且具有磁性；以及

限幅器，位于所述波导器上，与所述靶、所述反射体以及所述波导器一起形成电子回旋共振区域，并且具有磁性。

2.根据权利要求1所述的溅射装置，其中，

所述靶是自旋的。

3.根据权利要求2所述的溅射装置，其中，所述靶包括：

靶本体，在内部形成有圆形空间，并且与所述电子回旋共振区域相邻；以及

第一磁性体，与所述靶本体相接，并且位于所述圆形空间。

4.根据权利要求1所述的溅射装置，其中，所述反射体包括：

反射板，与所述电子回旋共振区域相邻；以及

第二磁性体，与所述反射板相邻。

5.根据权利要求1所述的溅射装置，其中，所述波导器包括：

导引本体，是沿着所述电子回旋共振区域的外围延伸的闭环形态，并且形成所述导引空间；

波供应部，与所述导引本体连接以向所述导引空间供应所述微波；

窗体，与所述电子回旋共振区域相邻；

第三磁性体，位于所述导引本体和所述窗体之间，沿着所述导引本体延伸，并且与所述导引本体相比更接近于所述电子回旋共振区域；以及

槽，贯通所述第三磁性体，并且使所述导引空间和所述窗体之间连通。

6.根据权利要求1所述的溅射装置，其中，所述限幅器包括：

多个第四磁性体，互相间隔设置。

7.根据权利要求1所述的溅射装置，其中，

所述电子回旋共振区域具有1微托至1毫托的压力。

8.根据权利要求1所述的溅射装置，其中，

等离子体在所述电子回旋共振区域放电。

9.根据权利要求1至8任意一项权利要求所述的溅射装置，其中，

形成将形成在基板上的有机发光器件封装的无机膜。