[发明专利]真空蒸发系统

说明书

【技术领域】

本发明涉及一种真空蒸镀领域，尤其涉及一种真空蒸发系统。

【背景技术】

目前，真空蒸镀工艺已广泛的用于半导体元器件及平板显示器件的制作。特别如有机发光二极管(OLED)等方面已形成了一个很大的产业，在OLED的制备过程中主要的过程是真空蒸发，就是把蒸发料放在加热的坩埚中把蒸发料变成蒸汽后沉积在基板上。

传统真空蒸发系统，只有一个蒸发源进行蒸发，无法更换，不能连续生产，且需要一直对蒸发源进行加热，整个系统一直处于高温状态既损耗大量的热能又会造成整个腔体和基板的升温，不利于产品的质量，降低了生产效率。

同时，由于随着平板显示面积的不断扩大，对大面积蒸发的均匀性和低成本的蒸发要求越来越高。传统的蒸发源有点蒸发源和线蒸发源。对于点蒸发源，由于蒸发时呈球面状，因此在蒸发到平面基板时是不均匀的，中间厚周边薄。为了要得到均匀的薄膜则需要把蒸发源放在基板的边缘而在基板旋转的情况下才能得到均匀的薄膜。这不仅增加了工艺的复杂性而且也造成了蒸发料的大量浪费。一般用这种方法的蒸发料的利用率只有百分之几。特别是对有机发光器件其有机发光的材料很昂贵的情况下它大大的增加了成本。对于线蒸发源，蒸发料利用率有了一定提高，但是它的结构复杂，为实现均匀蒸发速率要控制的因素很多，设备成本较高。

此外，由于一般的有机发光层多需要有搀杂剂，因此需要多源蒸发。这不仅带来了更多的控制，为了调节其稳定的蒸发速率需要很长的调试过程，这也带来了很大的蒸发料的浪费和工艺成本。

【发明内容】

有鉴于此，有必要提供一种可更换的带有气流导向蒸发源的真空蒸发系统。

一种真空蒸发系统，包括真空腔室、蒸发源、电磁感应圈以及托架；所述托架设置在所述真空腔室的底部，所述电磁感应圈设置在所述托架上方，与所述托架相对，基板设置在所述真空腔室的上部，所述蒸发源为多个，所述真空蒸发系统还包括移动支架，所述多个蒸发源排列放置在所述移动支架上，所述移动支架将蒸发源送至所述托架上方，所述托架将蒸发源托送至所述电磁感应圈中通过电磁感应加热进行蒸发，并在蒸发结束后返回初始位置，将所述蒸发源放回所述移动支架上的初始位置，所述移动支架在所述蒸发源放回到初始位置时，进行移动并将下一蒸发源送至所述托架上方，进行下一次蒸发；

所述真空蒸发系统还包括用于移动所述移动支架的移动装置；所述移动装置与所述移动支架相连，用于带动所述移动支架并使所述移动支架上的蒸发源准确对位到所述托架上方，以便所述托架将蒸发源托送到所述电磁感应圈中。

优选的，所述真空腔室包括隔板，所述隔板将真空腔室隔成上下两层，上层为主真空腔室，所述主真空腔室上部设置基板，所述隔板中部开有蒸发口，供蒸汽气流通过，所述蒸发口一侧设有可封闭蒸发口的闸板阀，所述真空腔室下层一侧开设有密封门，用于更换所述移动支架和蒸发源。

优选的，所述蒸发源卡放在所述移动支架上，所述移动支架上设置有多组定位环组，每组定位环组包括上下两个定位环，上定位环直径大于蒸发源的直径，下定位环直径小于蒸发源的直径，以卡持一个蒸发源。

优选的，所述真空蒸发系统还包括托架推动装置；所述托架推动装置包括内推动装置和外推动装置，所述内推动装置设置在真空腔室内部，与托架底部连接，所述外推动装置固定在真空腔室底部的外部，与所述内推动装置相对，所述外推动装置利用磁力推动所述内推动装置上升，以推动所述托架上升。

优选的，所述蒸发源包括蒸发坩埚、阻挡板、气流导向头、导流件以及气流导向塞子；所述蒸发坩埚底部呈锥状且放置有蒸发料，所述阻挡板为多个，与蒸发坩埚内部连接，呈迷宫状交叉设置，所述气流导向头设置在蒸发坩埚顶端，中部贯通形成喷口，所述喷口两端均呈喇叭形，所述导流件设置在气流导向头内侧，与气流导向头连接，中部贯通形成导流喷口，所述导流喷口两端均由多个圆锥角不相同的锥面依次连接而构成喇叭形，所述气流导向塞子设置在导流件的内侧，呈锥状。

优选的，所述蒸发坩埚、气流导向头、阻挡板、导流件以及气流导向塞子均由在电磁场感应下能够发热的材料制成。