[发明专利]一种制作微透镜或微透镜阵列的方法有效
申请号: | 201110423132.1 | 申请日: | 2011-12-16 |
公开(公告)号: | CN103163573A | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
发明(设计)人: | 吴砺;林磊;贺坤;赵振宇;陈燕平 | 申请(专利权)人: | 福州高意光学有限公司 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00 |
代理公司: | 福建炼海律师事务所 35215 | 代理人: | 许育辉 |
地址: | 350001 福建省福州*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 制作 透镜 阵列 方法 | ||
技术领域
本发明涉及光学元件领域,尤其涉及一种制作微透镜或微透镜阵列的方法。
背景技术
微透镜为一种尺寸极为微小的透镜,传统上将直径小于1mm的透镜定义为微透镜,有些直径大到5mm以上的透镜也被认为是微透镜。微透镜可应用于光电元件,如数码相机的影像感测机、手机数码光学模组、或太阳能电池等,用于聚焦所接收到的光束,或扩散光电元件所发射的光束。微透镜阵列在用于成像应用的微型封装中提供了光学多功能性。
传统的制作微透镜或微透镜阵列的方法,如使用回流或扩散方法,机械抛光等,制作工艺复杂,成本高。
发明内容
本发明提供了一种全新的制作微透镜或微透镜阵列的方法,工艺简单,适合大规模快速制作。
为达到上述目的,本发明所提出的技术方案为:一种制作微透镜或微透镜阵列的方法,包括如下步骤:(1)采用光刻法在光学基板表面刻蚀孔或槽阵列;(2)在孔或槽阵列中注入相应重量的SiO2气溶胶,所述光学基板材料为可与SiO2气溶胶浸润的材料,SiO2气溶胶与光学基板浸润,表面形成凹面或凹柱面;(3)固化SiO2气溶胶。
或者,在注入SiO2气溶胶之前,先在光学基板表面非刻蚀区域镀一层与SiO2气溶胶非浸润的膜层,然后再注入相应重量的SiO2气溶胶;SiO2气溶胶与膜层非浸润,表面形成凸面或凸柱面,最后再固化SiO2气溶胶。
进一步的,上述刻蚀的孔为微圆孔、微椭圆形孔或微圆柱孔阵列等。
进一步的,注入的SiO2气溶胶的重量可根据SiO2气溶胶密度及孔或槽的体积确定。孔的半径即为凹面或凸面的曲率半径,或槽的宽度即为凹柱面或凸柱面的曲率半径,由此曲率半径即可确定透镜的焦距。
本发明的有益效果:本发明的一种制作微透镜或微透镜阵列的方法,利用光学基板与SiO2气溶胶浸润的张力形成凹透镜、凹柱面镜等;在光学基板表面镀一层与SiO2气溶胶非浸润的膜层,利用SiO2气溶胶与膜层非浸润的表面收缩力,形成凸透镜、凸柱面镜等,该方法工艺简单,成本低,并可大规模快速制作。
附图说明
图1为微凹透镜制作过程示意图;
图2为微凸透镜制作过程示意图;
图3为微球透镜阵列示意图;
图4为微柱透镜阵列示意图。
附图标记:101、光学基板;102、SiO2气溶胶;201、光学基板;202、膜层;203、SiO2气溶胶。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式,对本发明做进一步说明。
如图1所示,为微凹透镜阵列的制作过程示意图,首先采用光刻法在光学基板101表面刻蚀需要的孔或槽阵列,如圆柱形小孔或椭圆形小孔;然后在刻蚀的孔或槽阵列中注入相应重量的SiO2气溶胶102,光学基板101材料为可与SiO2气溶胶102浸润的材料,SiO2气溶胶102与光学基板101浸润,利用其表面张力形成凹面或凹柱面微透镜,最后让SiO2气溶胶102自然固化。如图3或4所示,刻蚀的为圆柱形小孔,则自然固化后可形成微凹透镜;刻蚀的为微矩形槽,则自然固化后可形成微凹柱面透镜。
如图2所示,为微凸透镜阵列的制作过程示意图,同样先采用光刻法在光学基板201表面刻蚀需要的孔或槽阵列,再在光学基板201表面非刻蚀区域镀一层与SiO2气溶胶203非浸润的膜层202,然后再注入相应重量的SiO2气溶胶203;SiO2气溶胶203与膜层202非浸润,表面形成凸面或凸柱面,最后让SiO2气溶胶203自然固化。如图3或4所示,刻蚀的为圆柱形小孔,则自然固化后可形成微凸透镜;刻蚀的为微矩形槽,则自然固化后可形成微凸柱面透镜。
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