[发明专利]一种制作微透镜或微透镜阵列的方法有效
| 申请号： | 201110423132.1 | 申请日： | 2011-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN103163573A | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 吴砺;林磊;贺坤;赵振宇;陈燕平 | 申请（专利权）人： | 福州高意光学有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 福建炼海律师事务所 35215 | 代理人： | 许育辉 |
| 地址： | 350001 福建省福州*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 制作 透镜 阵列 方法 | ||
【权利要求书】：
1. 一种制作微透镜或微透镜阵列的方法，其特征在于，包括如下步骤：（1）采用光刻法在光学基板表面刻蚀孔或槽阵列；（2）在孔或槽阵列中注入相应重量的SiO2气溶胶，所述光学基板材料为可与SiO2气溶胶浸润的材料，SiO2气溶胶与光学基板浸润，表面形成凹面或凹柱面；（3）固化SiO2气溶胶。
2.如权利要求1所述的一种制作微透镜或微透镜阵列的方法，其特征在于：在注入SiO2气溶胶之前，先在光学基板表面非刻蚀区域镀一层与SiO2气溶胶非浸润的膜层，然后再注入相应重量的SiO2气溶胶；SiO2气溶胶与膜层非浸润，表面形成凸面或凸柱面。
3.如权利要求1或2所述的一种制作微透镜或微透镜阵列的方法，其特征在于：所述刻蚀的孔为微圆孔、微椭圆形孔或微圆柱孔阵列。
4.如权利要求1或2所述的一种制作微透镜或微透镜阵列的方法，其特征在于：注入的SiO2气溶胶的重量根据SiO2气溶胶密度及孔或槽的体积确定。
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