[发明专利]一种ZnO/CdTe/CdS纳米电缆阵列电极及其制备方法无效
申请号: | 201110421786.0 | 申请日: | 2011-12-15 |
公开(公告)号: | CN102412318A | 公开(公告)日: | 2012-04-11 |
发明(设计)人: | 王浩;刘荣;王喜娜;王甜;汪宝元 | 申请(专利权)人: | 湖北大学 |
主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L31/18 |
代理公司: | 北京君智知识产权代理事务所 11305 | 代理人: | 向华 |
地址: | 430062 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 zno cdte cds 纳米 电缆 阵列 电极 及其 制备 方法 | ||
【技术领域】
本发明属于半导体纳米材料技术领域。更具体地,本发明涉及用于太阳能电池的ZnO/CdTe/CdS纳米电缆阵列电极,还涉及所述ZnO/CdTe/CdS纳米电缆阵列电极的制备方法。
【背景技术】
近年来,由于半导体量子点或纳米晶具有吸收效率较高、禁带宽度可调、抗光降解性能高及多激子产生效应等优点,一维阵列电极则能有效减少电子散射和电子传输路径,提高电子扩散长度和光伏路径,研究人员逐渐采用量子点或纳米晶来敏化一维氧化物纳米阵列电极,以制备半导体敏化太阳能电池(简称SSSC)。在SSSC结构中,由于ZnO和TiO2禁带宽度较宽,对可见光的透过率较高,且化学和光稳定性较高,所以通常用作为核心电极,常用的量子点材料一般是PbS、CdSe、CdS和CdTe等,其中由于CdTe有较高的光学系数和较窄的带隙(1.5eV,与太阳光谱非常匹配),对提高光的吸收效率非常有利。然而,当采用纳米晶或量子点来敏化电极时,敏化剂的载量非常有限,并且量子点(或纳米晶)/电解液界面及ZnO/量子点(或纳米晶)界面处的电子复合损失严重,进而影响电极的光电化学性能。为了解决上述问题,制备氧化物纳米阵列(核)/半导体(壳)结构(即纳米电缆)电极是一种不错的选择。例如Yong等人制备的ZnO/CdS纳米电缆阵列电极型电池,效率提高到3.53%,参见Tak Y.等人,《J.Mater.Chem.》2009,19(33),第5945-5951页;Myung Y.等人,《ACSNano》,2010,4(7),第3789-3800页。最近,本发明人采用ZnO/CdTe纳米电缆阵列电极构筑电池,饱和光电流达到了6mA/cm2,Xina Wang等人,《ACSNano》,2010,4(6),第3302-3308页。
此外,双层或多层纳米晶共敏化技术也被用来改善电池的光伏性能。例如,Minsu seoul等人则采用CdS和CdSe量子点共敏化ZnO纳米线技术,通过内层CdS作为籽晶来提高外层CdSe的光学性能,并利用CdS和CdSe之间的协调效应,进而更利于电子的前向传输,使电池的饱和光电流和效率分别提高到9.15mA/cm2,优于单独使用CdS或CdSe的结果,参见Minsu seoul等人,《Electrochemistry communications》,2010,12,第1416-1418页,刘勇等人利用CdS/CdSe量子点双敏化TiO2纳米线薄膜,通过在5μm的TiO2纳米线上修饰双量子点,将电池的饱和电流和效率分别提高到7.92mA/cm2和1.14%,参见Ming Li等人,《J.Appl.Phys》,2010,108,094304]。然而,目前多层敏化结构电极的研究还局限于CdS和CdSe共敏化体系,对CdTe参与的共敏化技术则很少涉及。
总概而言,现有技术还存在一些缺陷或不足。首先是吸收光谱的范围有限;其次是电极与电解液长时间接触时,容易被腐蚀,化学和电学稳定性均差;最后是制备工艺复杂,不易控制和重复。
鉴于现有技术存在的缺陷,本发明人在总结现有技术的基础上,经过大量实验研究,终于完成了本发明。
【发明内容】
[要解决的技术问题]
本发明的目的是提供一种ZnO/CdTe/CdS纳米电缆阵列电极。
本发明的另一个目的是提供所述ZnO/CdTe/CdS纳米电缆阵列电极的制备方法。
[技术方案]
本发明是通过下述技术方案实现的。
本发明涉及一种ZnO/CdTe/CdS纳米电缆阵列电极。
该ZnO/CdTe/CdS纳米电缆阵列电极是由按照从里到外顺序的ITO导电玻璃衬底、ZnO缓冲薄膜层、ZnO纳米线阵列层、CdTe纳米电缆层与CdS纳米晶保护层组成的;其中:
ZnO缓冲薄膜层的厚度是20-40nm;
在ZnO纳米线阵列层中,ZnO纳米线的直径是50-100nm与长度0.5-3μm;
CdTe纳米电缆层的厚度是3-30nm;
CdS纳米晶保护层的厚度是2-20nm;
饱和光电流密度达到12.4mA/cm3。
根据本发明的一种优选实施方式,所述的ZnO缓冲薄膜的厚度是25-35nm。
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的