[发明专利]电路布局中的运行中的器件表征

权利要求书

1.一种设计系统，包括：

布局模块，包括计算单元，其中，所述计算单元被配置为：

在所述电路的布局阶段期间，提取电路中的集成电路器件的布局参数；以及

使用所述布局参数计算出所述器件的电路参数；以及

用户界面，被配置为响应于用户对所述器件的选择，显示出所述器件的所述电路参数。

2.根据权利要求1所述的设计系统，其中，所述集成电路器件是晶体管，其中，所述电路参数包括从基本上由所述晶体管的驱动电流、阈值电压、跨导、以及漏电导构成的组中选择出的参数，并且其中，所述布局参数包括从基本上由晶体管的阱邻近参数、OD间隔、多晶硅间隔、扩散长度、及其组合构成的组中选择出的参数。

3.根据权利要求1所述的设计系统，其中，所述计算单元被配置为执行背景计算，从而在所述电路的所述布局阶段结束之前，提取出所述布局参数并且计算出所述电路参数。

4.根据权利要求1所述的设计系统，进一步包括：原理图编辑器，被配置为用于编辑所述电路的原理图，并且其中，所述原理图编辑器被配置为将制造布局参数反向传递给所述原理图来替换所述集成电路器件的默认假设的布局参数。

5.根据权利要求1所述的设计系统，进一步包括：布局编辑器，其中，所述布局编辑器被配置为用于提取所述集成电路器件的所述布局参数。

6.一种设计系统，包括：

布局模块，被配置为：

提取电路的晶体管的布局参数；

将所述布局参数反向传递到所述电路的原理图，从而替换默认布局参数，其中，所述默认布局参数是假设值；以及

使用包括所述布局参数的所述原理图计算出所述晶体管的电路参数。

7.根据权利要求6所述的设计系统，进一步包括：用户界面，被配置为响应于用户对所述晶体管的选择，显示出所述晶体管的所述电路参数，并且其中，所述电路参数被显示为从自具有所述默认布局参数的所述原理图模拟出的电路参数中下降得到的下降值。

8.根据权利要求6所述的设计系统，其中，所述电路参数包括从基本上由所述晶体管的驱动电流、阈值电压、跨导、和漏电导构成的组中选择出的参数，并且其中，所述布局参数包括从基本上由晶体管的阱邻近参数、OD间隔、多晶硅间隔、扩散长度、及其组合构成的组中选择出的参数。

9.根据权利要求6所述的设计系统，进一步包括：

原理图编辑器，被配置为用于编辑所述电路的所述原理图，其中，所述原理图编辑器和所述布局模块被配置为将所述布局参数反向传递给所述原理图；以及

布局编辑器，被配置为生成和编辑所述电路的布局，其中，所述布局模块被配置为从所述布局中提取所述晶体管的所述布局参数。

10.一种方法，包括：

根据电路的原理图将所述电路的部分布局为布局；

从所述布局中提取出所述电路中的晶体管的布局参数；

将所述布局参数反向传递到所述原理图，从而替换所述晶体管的默认布局参数，其中，所述默认布局参数是假设值；

使用包括从所述布局中提取出的所述布局参数的原理图计算出所述晶体管的电路参数；

在用户界面上显示出所述晶体管的所述电路参数；以及

对金属线进行布线，从而互连所述布局中的器件；

执行后布局模拟，从而模拟所述电路的整体性能，其中，在所述布线和所述后布局模拟步骤之前，执行所述提取、反向传递、和计算的步骤。