[发明专利]基于ARM的嵌入式注入机控制系统

权利要求书

1.一种基于ARM的嵌入式离子注入机，包括电源系统，其特征在于，还包括：

反应腔室、预抽腔室、运行有注入机控制软件的上位机、真空控制系统、送片系统；

所述真空控制系统在所述上位机的控制下，控制所述反应腔室、所述预抽腔室的真空度；所述反应腔室与所述预抽腔室连接；所述送片系统用于将硅片从所述预抽腔室运输至所述反应腔室，并将硅片运输至所述反应腔室内的离子反应位置；所述上位机是基于ARM的方式实现。

2.根据权利要求1所述的离子注入机，其特征在于，所述真空控制系统包括：

分子泵、第一机械泵、第二机械泵、分支泵、真空计、连接在所述预抽腔室和反应腔室之间的门阀、电磁阀、摆阀以及气体管路中的各级气动阀；

所述第一机械泵的一支路通过电磁阀与所述反应腔室连接，另一支路依次通过电磁阀、分子泵以及摆阀与所述反应腔室连接；

所述第二机械泵通过所述电磁阀与所述预抽腔室连接；

所述真空计分别与所述预抽腔室和反应腔室连接。

3.根据权利要求1所述的离子注入机，其特征在于，所述送片系统包括：

真空机械手及带有弹性的多点支撑式的持片结构的下电极；

所述真空机械手将硅片从所述预抽腔室运输至所述反应腔室；

所述下电极将所述硅片固定于所述反应腔室上方。

4.根据权利要求1所述的离子注入机，其特征在于，还包括送气系统，所述送气系统包括：

气源、质量流量控制器和电磁阀；

所述气源依次通过所述质量流量控制器、电磁阀与所述反应腔室连接。

5.根据权利要求1所述的离子注入机，其特征在于，所述电源系统包括：

射频电源、射频电源匹配器及脉冲电源；

所述脉冲电源与所述反应腔室连接；所述射频电源通过所述射频电源匹配器与所述反应腔室连接。

6.根据权利要求1-5任一项所述的离子注入机，其特征在于：

所述上位机采用型号为S3C2440的处理器。